T/QGCML 3081-2024 半导体溅射靶材高纯钛金属粉末
T/QGCML 3081-2024 Semiconductor sputtering target material high purity titanium metal powder
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/QGCML 3081-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-01-31
实施日期
2024-02-15
发布单位/组织
-
归口单位
全国城市工业品贸易中心联合会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了半导体溅射靶材高纯钛金属粉末的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于半导体溅射靶材高纯钛金属粉末的生产及检验
发布历史
-
2024年01月
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研制信息
- 起草单位：
- 宁波尚材三维科技有限公司、山东格美钨钼材料股份有限公司、宁波创润新材料有限公司
- 起草人：
- 彭炜、潘安达、翟彬、连栗、蒲锋、张士旭、陈占洋、李东侠
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
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