T/CNIA 0064-2020 多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
T/CNIA 0064-2020 Determination of Impurity Content in Durable Silicon Wipes for the Polysilicon Industry Using Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy (ICP-AES)
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNIA 0064-2020
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2020-05-27
实施日期
2020-08-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定方法。本标准适用于多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定，测定范围为0.10 μg/g～10.00 μg/g
发布历史
-
2020年05月
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研制信息
- 起草单位：
- 亚洲硅业（青海）股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、苏州鸿博斯特超净股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、新特能源股份有限公司、内蒙古神舟硅业有限责任公司、国标（北京）检验认证有限公司
- 起草人：
- 王体虎、宗冰、蔡延国、魏东亮、田润朝、曹岩德、刘凤华、顾小祥、王桃霞、杨晓青、刘国霞、董燕军、刘红、陈英、王海礼、拜黎洁、张海燕、安军林
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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