T/CNIA 0141-2022 多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
T/CNIA 0141-2022 Determination of Metal Impurity Content in Hydrogen Used for Polysilicon Production Using Inductively Coupled Plasma Mass Spectroscopy (ICP-MS)
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNIA 0141-2022
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2022-02-28
实施日期
2022-08-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定多晶硅生产用氢气中钠、镁、铝、钙、铬、锰、铁、镍、铜、锌、砷、钛元素含量的方法
发布历史
-
2022年02月
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研制信息
- 起草单位：
- 内蒙古通威高纯晶硅有限公司、四川永祥股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、青海芯测科技有限公司、江苏鑫华半导体材料科技有限公司
- 起草人：
- 袁中华、张习松、黄仕建、慕道焱、侯海波、李寿琴、楚东旭、刘翠、魏东亮、邱艳梅、王彬、岳峥、赵培芝
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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