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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

YS/T 718-2009 Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating

行业标准-有色金属 中文简体 现行 页数：5页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
YS/T 718-2009
相关服务
购买纸质版 商用授权
标准类型
行业标准-有色金属
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H63 稀有高熔点金属及其合金
国际标准分类号（ICS）
77.150.99 其他有色金属产品
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

发布历史

文前页预览

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶-第1页
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶-第2页
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶-第3页

研制信息

起草单位：
利达光电股份有限公司
起草人：
李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
出版信息：
页数：5页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开

内容描述

犐犆犛７７．１５０．９９

犎６３

中华人民共和国有色金属行业标准

／—

犢犛犜７１８２００９

平面磁控溅射靶材

光学薄膜用铌靶

—

犉犾犪狋犿犪狀犲狋犻狀狊狌狋狋犲狉犻狀狋犪狉犲狋

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犵狆犵

２００９１２０４发布２０１００６０１实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

／—

犢犛犜

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