T/TAIA 001-2024 工业硅酸钾钠 氧化钾和氧化钠含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
T/TAIA 001-2024 The determination of the content of potassium oxide and sodium oxide in industrial potassium silicate, using inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy
团体标准
中文(简体)
现行
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格式:PDF
基本信息
标准号
T/TAIA 001-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-02-06
实施日期
2024-02-06
发布单位/组织
-
归口单位
天津市分析测试协会
适用范围
范围:本文件规定了采用电感耦合等离子体发射光谱法测定工业硅酸钾钠中氧化钾和氧化钠含量的方法。
本文件适用于工业硅酸钾钠中氧化钾和氧化钠含量的测定。测定范围:氧化钾1.00%~25.0%,氧化钠1.00%~15.0%;
主要技术内容:本文件主要技术原理:试样用盐酸、硝酸、氢氟酸溶解,高氯酸加热消解后,加钇作内标,稀释至一定体积。用电感耦合等离子体原子发射光谱仪测定氧化钾、氧化钠,同时在371.03nm处测定钇的发射光强度,计算各元素的含量
发布历史
-
2024年02月
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研制信息
- 起草单位:
- 中冶(天津)检测技术有限公司、天津市理化分析中心有限公司、天津市半导体技术研究所有限公司、天津九州环保科技有限公司、天津师范大学-化学学院、天津天海汇成科技有限公司
- 起草人:
- 刘明、杨绍康、李倩、封鑫、白瑞雪、王倩、张金迈、赵磊
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
暂无内容
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