T/CPPIA 34-2024 光致抗蚀干膜用聚酯基膜
T/CPPIA 34-2024 PhotoreSIST film made from polyester base membrane
团体标准
中文(简体)
现行
页数:0页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/CPPIA 34-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-01-25
实施日期
2024-02-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国塑料加工工业协会
适用范围
范围:本文件规定了光致抗蚀干膜用聚酯基膜(以下简称“基膜”)的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。
适用于以聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂为主要原料,添加适量母料,经熔融挤出、双向拉伸工艺制成的用于光致抗蚀干膜用途的聚酯薄膜的生产、检验和销售;
主要技术内容:4要求4.1外观4.1.1 膜卷膜卷应收卷整齐、松紧一致,无接头、跑边、皱筋、划伤、切口毛边、油污及任何影响适用性的缺陷。4.1.2 表面缺陷表面缺陷应符合表1要求。4.2尺寸及偏差4.2.1 厚度偏差产品公称厚度范围一般在15μm~23μm,厚度偏差应符合表2的要求。4.2.2 宽度和长度偏差应符合表3的要求。4.3物理性能应符合表4的要求
发布历史
-
2024年01月
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研制信息
- 起草单位:
- 富维薄膜(山东)有限公司、常州钟恒新材料股份有限公司、杭州和顺科技股份有限公司、康辉新材料科技有限公司
- 起草人:
- 叶世强、孟凡、毛广源、胡爱娟、袁文新、刘俊萍、陈正坚、郭凤刚、张文闯
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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