T/CQPRA 0086-2026 超高纯纳米二氧化硅溶胶
T/CQPRA 0086-2026 Ultra-high Purity Nano Silica Sol
基本信息
发布历史
-
2026年03月
研制信息
- 起草单位:
- 朱斌、高慧敏、宋玉明
- 起草人:
- 石家庄优士科电子科技有限公司、河北硅研电子材料有限公司、河北科技大学
- 出版信息:
- 页数:10页 | 字数:- | 开本: -
内容描述
ICS03.080.01
CCSP35
CQPRA
重庆市国际国内公共关系协会团体标准
T/CQPRA0086—2026
超高纯纳米二氧化硅溶胶
Ultra-highPurityNanoSilicaSol
2026-03-05发布2026-03-05实施
重庆市国际国内公共关系协会 发布
T/CQPRA0086—2026
目次
前言.................................................................................III
引言...................................................................................V
1范围................................................................................1
2规范性引用文件......................................................................1
3术语和定义..........................................................................1
4分子式..............................................................................1
5要求................................................................................2
6试验方法............................................................................2
7检验规则............................................................................5
8标志、标签..........................................................................6
9包装、运输、贮存....................................................................6
I
T/CQPRA0086—2026
前言
本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由重庆市国际国内公共关系协会提出并归口。
本文件起草单位:石家庄优士科电子科技有限公司、河北硅研电子材料有限公司、河北科技大学。
本文件主要起草人:朱斌、高慧敏、宋玉明。
III
T/CQPRA0086—2026
引言
随着半导体、集成电路及先进电子制造技术的快速发展,对关键基础材料的纯度、粒径一致性及稳
定性提出了更高要求。超高纯纳米二氧化硅溶胶作为一种重要的功能性无机材料,因其粒径可控、分散
性好、金属杂质含量低等特点,广泛应用于半导体化学机械抛光(CMP)、精密制造、电子封装及相关
高端工艺领域,其产品质量直接影响终端器件的性能与可靠性。
目前,国内在超高纯纳米二氧化硅溶胶的产品分类、技术指标、试验方法及检验规则等方面尚缺乏
统一、系统的技术规范,不同生产企业在指标设置和检测方法上存在一定差异,不利于产品质量控制、
技术交流及市场应用。为规范超高纯纳米二氧化硅溶胶的技术要求和检测方法,提升产品质量的一致性
与可比性,有必要制定相应的技术标准。
本文件在充分结合超高纯纳米二氧化硅溶胶的产品特性和实际应用需求的基础上,对其分类和编码、
技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等内容作出规定,旨在为产品生产、质量
检验及应用提供统一的技术依据,促进超高纯纳米二氧化硅溶胶产品的规范化生产与高质量
定制服务
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