T/QGCML 4573-2024 高精度超洁净晶圆电化学电镀腔体网格盘生产制造规范
T/QGCML 4573-2024 The production and manufacturing specifications for high-precision, ultra-clean crystal wafer electrochemical plating chamber grid disks with precise accuracy
基本信息
发布历史
-
2024年08月
研制信息
- 起草单位：
- 常熟市兆恒众力精密机械有限公司、苏州市兆丰精密机械有限公司、苏州新意精密机械有限公司
- 起草人：
- 罗中平、雷超、赵鹏志
- 出版信息：
- 页数：7页 | 字数：- | 开本： -
内容描述
ICS31.020
CCSH80
团体标准
T/QGCML4573—2024
高精度超洁净晶圆电化学电镀腔体网格盘
生产制造规范
Manufacturingspecificationforhighprecisionandultracleanwaferelectrochemical
electroplatingchambergriddisk
2024-08-12发布2024-08-27实施
全国城市工业品贸易中心联合会 发布
T/QGCML4573—2024
目次
前言..................................................................................II
1范围................................................................................1
2规范性引用文件......................................................................1
3术语和定义..........................................................................1
4缩略语..............................................................................2
5场地和人员..........................................................................2
6设备................................................................................2
7材料................................................................................2
8加工流程............................................................................3
9成品质量............................................................................3
10环境保护...........................................................................3
11安全...............................................................................4
I
T/QGCML4573—2024
定制服务
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