JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备

ICS23.160

J78

JB/T8946999－－－1

真空离子镀膜设备

Vacuumioncoatingplant

1999-07-12发布2000-01-01实施

国家机械工业局发布

JB/T8946－－－－1999

前言

本标准由全国真空技术标准化技术委员会提出并归口。

本标准起草单位：沈阳真空技术研究所。

本标准主要起草人：金石、李春影、李玉英。

I

中华人民共和国机械行业标准

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真空离子镀膜设备JB/T89461999

Vacuumioncoatingplant

1范围

本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。

本标准适用于压力在10-4~10-3Pa范围的真空离子镀膜设备（以下简称设备），具体包括如下类型：

多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀（HCD）、射频离子镀（RFIP）、直流放电二极

型（DCIP）、多阴极型、活性反应蒸发镀（ARE）、增强型ARE、低压等离子体离子镀（LFPD）、电场

蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。

注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用

的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片