DB13/T 1314-2010 太阳能级单晶硅方棒、单晶硅片
DB13/T 1314-2010 Solar-grade single-crystal silicon square bar and single-crystal silicon wafers
基本信息
发布历史
-
2010年11月
研制信息
- 起草单位:
- 起草人:
- 出版信息:
- 页数:10页 | 字数:- | 开本: -
内容描述
ICS01.040.27
F12
DB13
河北省地方标准
DB13/T1314—2010
太阳能级单晶硅方棒、单晶硅片
2010-11-15发布2010-11-25实施
河北省质量技术监督局发布
DB13/T1314—2010
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由邢台市质量技术监督局提出。
本标准起草单位:晶龙实业集团有限公司、宁晋县质量技术监督局。
本标准主要起草人员:任丙彦、安增现、柳志强、颜志峰、刘彦朋。
I
DB13/T1314—2010
太阳能级单晶硅方棒、单晶硅片
1范围
本标准规定了太阳能级硅单晶方棒、单晶硅片的术语和定义、产品分类、原料要求、技术要求、试
验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存等。
本标准适用于制造太阳能电池基片的单晶硅方棒、单晶硅片。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T1554硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T2828.1计数抽样检验程序第一部分:按接受质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
GB/T6618硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T6620硅片翘曲度非接触式测试方法
GB/T6624硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T191包装储运图示标志
3术语和定义
3.1
缺口indent
指贯穿单晶硅片边缘的缺损。
3.2
亮边brightPointEdge
指单晶硅片侧棱上的连续缺损区域。
3.3
崩边edgecrack
指单晶硅片边缘或表面未贯穿单晶硅片的局部缺损区域,当崩边在单晶硅片边缘产生时,其尺寸由
径向深度和周边弦长给出。
3.4
裂纹crack
指延伸到单晶硅片表面,贯穿或不贯穿单晶硅片厚度的解理或裂痕。
1
DB13/T1314—2010
3.5
划痕scratch
指单晶硅片在白炽灯或荧光灯下,肉眼明显可见的凹陷状划伤。
3.6
线痕sawmark
指切割时在单晶硅片表面留下的轻微不规则凹凸直线状痕迹。
3.7
弧宽度偏差chamferwidthdeparture
单晶硅方棒、单晶硅片的四个圆弧中所对应的最大弦长与最小弦长的差。
4产品分类
4.1分类
单晶硅方棒、单晶硅片按导电类型分为N型和P型两种类型。
4.2规格
单晶硅方棒、单晶硅片按直径分为Ф127mm、Ф135mm、Ф150mm、Ф165mm、Ф200mm、
Ф220mm或由供需双方商定规格;按单晶硅方棒、单晶硅片的形状和外形尺寸(注:a×a/φ见图1,
单位mm)分为:
100×100/127、103×103/135、125×125/150、125×125/165、156×156/200、156×156/220或由供
需双方商定规格。
Φ—直径;
2
DB13/T1314—2010
α—边长;
L—弦长。
单晶硅方棒断面、单晶硅片表面形状
4.3等级
单晶硅片按品质等级分为:一级品、二级品、三级品(具体分类标准见5.2.3)。
5原料要求
原料应符合表1规定。
位错密
少子寿命
导电掺杂元生长晶向电阻率氧含量碳含量度
晶向μs
类型素方式偏离度Ω.cmatoms/cm3atoms/cm3个
(断面中心点)
/cm2
B(硼)1-3/3-6≥15
P型GaCZ<100>≤1°≤0.95×10E18≤5×10E16≤2000
0.5-6≥10
(镓)
定制服务
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