T/ACCEM 456-2024 离子辅助沉积用射频离子源
T/ACCEM 456-2024 Ion-assisted deposition using radio frequency ion source
团体标准
中文(简体)
现行
页数:0页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/ACCEM 456-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-12-17
实施日期
2024-12-31
发布单位/组织
-
归口单位
中国商业企业管理协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了离子辅助沉积用射频离子源的产品参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、随行文件、包装、运输和贮存。本文件适用于离子辅助沉积用射频离子源的生产和检验
发布历史
-
2024年12月
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研制信息
- 起草单位:
- 常州鑫立离子技术有限公司、同济大学、长春理工大学中山研究院、中国科学院上海技术物理研究所、中山吉联光电科技有限公司、广东长理精讯光电科技有限公司、上海葛西光学科技有限公司、西南技术物理研究所、天津理工大学、中山火炬职业技术学院、江苏曙光光电有限公司、南京茂莱光学科技股份有限公司、江西兆九光电技术有限公司、江苏北方湖光光电有限公司、南京波长光电科技股份有限公司、大鼎光学薄膜(中山)有限公司、上海鸿辉光联通信技术有限公司、成都兴南真科科技有限责任公司、四川四盛真空设备有限公司、江苏索腾真空科技有限公司、深圳市三束镀膜技术有限公司、巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司、成都国泰真空设备有限公司、江阴迪科真空科技有限公司、苏州文迪光电科技有限公司
- 起草人:
- 陈晓东、张志勇、焦宏飞、付秀华、王奔、段微波、林兆文、潘永刚、董所涛、张明、王红、马孜、熊仕富、石澎、陈建华、宋治平、汤兆胜、唐乾隆、李全民、闪雷雷、楼雪峰、陆锦惠、康军、高虹、王勇、刘宸佳、战永刚、徐川、卢成、宋书伟、刘毅楠
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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