GB/T 17720-1999 金属覆盖层 孔隙率试验评述

ICS25.220.40

A29

中华人民共和国国家标准

Gs/T17720-1999

eqvISO10308:1995

金属覆盖层孔隙率试验评述

Metalliccoatings-Reviewofporositytests

1999一04一08发布1999一09一01实施

国家质量主支刁K监督局发布

GB/T17720-1999

目次

前言·······················································································..·························……B

ISO前言······。···········································。······································“················……N

1范围·································。···············································································一1

2引用标准······························································································，········……1

3定义·2

4原理··············································································································……2

5孔隙率试验的共同特点·······································································…·…”‘’·’‘二二‘二‘2

6试验试样···································································。········，··························……2

7具体的孔隙率试验······························2

7，1茜素试验·································································································……2

7.2葱醒试验··················································。····································。···········……2

7.3硫化锅试验························································。················。·························……3

7.4硫酸铜(Preece)试验3

7.5硫酸铜(Dupernell)试验二‘3

7.6腐蚀青试验(CORR)······································。·······················，························……3

7.7电解显像试验·················································。························。·············。······……3

7.8亚铁氛化物试验4

7.9试铁灵试验4

7.10铁试剂试验······。·····························································。······························……4

7.11硫华孔隙试验·······························································································……5

7.12热水试验·······。······························································。·······························……5

7.13硫化氢或二氧化硫/硫化氢试验···，’··················，·’············，·’”··········……”‘…’二二‘’二’二5

7.14苏木试验···························。··········，·······························································……5

7.15试镁灵试验····················。···········································································。……5

7.16硝酸气氛试验·······。··············。·······································································。…5

7.178-经基唆琳试验·······。·························································。··························……6

7.18高锰酸盐试验·····。························································……·‘···············。·········……6

7.19多硫化物试验·········································································“············。······……6

7.20a一亚硝基书一蔡酚试验···········································································……·‘·……6

7.21盐雾试验[中性盐雾试验(NSS),醋酸盐雾试验(AASS),铜加速醋酸盐雾试验(CASS)]……6

7.22二氧化硫试验························································································。。····……6

7.23亚硫酸/二氧化硫气氛试验7

7.24硫氛酸盐试验···········································。···········································，·······……7

7.25硫代乙酞胺试验(TAA)······························……，···············。·········……·…‘·‘’‘二二‘二‘7

7.26表壳的乙酸试验·············。····································································。··········……7

GB/T17720-1999

7.27表壳的亚硫酸氢钠试验·”························“········”·····················.·.·.··.···...·..·……7

附录A(标准的附录)孔隙率试验表·························…·…“·········..··················.·..·..·……8

附录B(提示的附录)孔隙率试验的典型报告和评价········“·“····”················“····“····……n

附录C(提示的附录)孔晾类型图示·······················“·······“····”·”···········.·..·.·...·.·……12

附录D(提示的附录)金属和其他无机班盖层不连续的分类”·”···········“·“··。·”·····”········一13

附录E(提示的附录)班盖层孔隙率试验方法分类····················”·”····”·”···················”·…13

附录F(提示的附录)根据基体材料和班盖层名称检索试验名称的索引····”··········“·······”·…14

附录G(提示的附录)参考文献···················································……”··.·..·.·...·..·.·.……26

GB/T17720-1999

前言

本标准等效采用ISO10308:1995《金属硬盖层孔晾率试验评述》。

本标准对ISO10308:1995作了如下修改:

-"7.20孔隙率试验”及文中涉及到该方法的名称均改为、一亚硝基一卜蔡酚试验”。

—附录F在编排上为了符合汉语习惯，采取了按基体材料中文名称和覆盖层中文名称的汉语拼

音第一个字母顺序检索的方法，这与ISO10308相比较是一非本质的差别。

—本标准删除了附录F中锌基体上的铜彼盖层项下的“葱醒试验”，增列了附录F中银基体上的

把、铂、金、铬覆盖层项下的硫“化锅试验”以及铝基体上铬夜盖层项下的“茜素试验”。

本标准的附录A是标准的附录，附录B,附录C,附录D,附录E、附录F和附录G均是提示的附录。

本标准由国家机械工业局提出。

本标准由全国金属与非金属硬盖层标准化技术委员会归口。

本标准起草单位:武汉材料保护研究所。

本标准主要起草人:姜新华、朱鳌生、杨方明。

GB/T17720-1999

ISO前言

ISO国际标准化组织)是各国家标准化团体((ISO成员团体)的全世界联合组织。制订国际标准的

工作一般通过ISO各技术委员会进行。各成员团体如对某一技术委员会确定的主题感兴趣，有权向该

委员会陈述。与ISO有联系的政府和非政府的国际组织也可参加此项工作。在国际电工标准化的各方

面，IS()与国际电工委员会(IEC)密切合作。

技术委员会制定的国际标准草案，在ISO理事会采纳为国际标准之前，先送各成员团体认可，按照

ISO程序，参与投票的成员团体至少要有75%赞成才算通过。

国际标准ISO10308由ISO/TC107金属和其他无机班盖层技术委员会SC7腐蚀试验分会制订。

附录A是标准的附录，附录B至附录G是提示的附录。

中华人民共和国国家标准

GB/T17720-1999

金属班盖层孔隙率试验评述eqvISO10308:1995

Metalliccoatings-Reviewofporositytests

1范围

本标准评述了已公布的揭示覆盖层中孔隙和不连续的方法，适用于铝、阳极氧化铝、黄铜、锅、铬、

钻、铜、金、锢、铅、镍、镍一确、镍一钻、镍一铁、镍一磷、把、铂、釉瓷或搪瓷、铭、银、锡、锡一铅、锡一镶、锡一锌、锌

等覆盖层以及铝、被一铜、黄铜、铜、铁,Kovar(NiFeCo)合金、镁、镍、镍一硼、镍一磷、磷一青铜、银、钢、锡一镶

和锌合金基体金属上的铬酸盐转化膜和磷酸盐转化膜(包括有关的有机膜)。

本标准中所述的各类试验，是利用适当的试剂与覆盖层不连续处暴露的基体起作用而形成的可观

察到的反应产物。

注

1孔晾一般都垂直于梭益层表面.也可能倾斜于砚盖层表面;它们往往呈圆形，也可能呈扭曲形，见附录C(提示的

附录)。

2孔晾尺寸各不相同，从亚徽观，即在普通显微镜下不可见;到徽观，即放大10倍到1000倍可见;到宏观，即肉眼

可见。

3孔隙可以用砚盖层表面的色斑来明确显示。

4反盖层中的孔晾并非总是有害的，例如，徽裂纹铬及徽孔铬要求裂纹或小孔。

5孔隙率试验的结果以每平方厘米表面的孔隙数来表示，它与试验中所用的具体试验方法和位查中所用的放大倍

数有关，是一相对值。

2引用标准

下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均

为有效。所有的标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。

GB/T3138-1995金属镀覆和化学处理与有关过程术语(neqISO2079:1981及ISO2080:1981)

GB/T6461-1986金属扭盖层对底材为阴极的夜盖层腐蚀试验后的电镀试样的评级

(eqvISO4540:1980)

GB/T6465-1986金属和其他非有机覆盖层腐蚀膏腐蚀试验(CORR试验)

(eqvISO4541:1978)

GB/T8752-1988铝及铝合金阳极氧化薄阳极氧化膜不连续性的检验硫酸铜试验

(idtISO2085:1986)

GB/T9789-1988金属和其他非有机覆盖层通常凝露条件下的二氧化硫腐蚀试验

(eqvISO6988:1985)

GB/T9797-1997金属彼盖层镍+铬和铜+镍+铬电沉积层(eqvISO1456:1988)

GB/T10125-1997人造气氛腐蚀试验盐雾试验(eqvISO9227:1990)

GB/T11379-1989金属班盖层工程用铬电镀层(neqISO6158:1984)

GB/T12305.2-1990金属夜盖层金和金合金电镀层的试验方法第二部分:环境试验

国家质.技术监价局1999一04一08批准1999一09-01实施

1

GB/T17720-1999

(eqvISO4524-2:1985)

GB/T12305.3-199。金属覆盖层金和金合金电镀层的试验方法第三部分:孔隙率的电解显

像试验(eqvISO4524-3:1985)

GB/T12332-1990金属覆盖层工程用镍电镀层(eqvISO4526:1985)

GB/T12600-1990金属覆盖层塑料上铜+镍+铬电镀层(eqvISO4525:1985)

GB/T17721-1999金属覆盖层孔隙率试验铁试剂试验(eqvISO10309:1994)

ISO3160.2-1992表壳和附件金合金硬盖层第二部分:细度、厚度和耐蚀性的测定

ISO4527-1987自催化镍一磷镀层技术要求和试验方法

ISO4538-1978金属覆盖层硫代乙酞胺腐蚀试验(TAA试验)

3定义

本标准采用GB/T3138及下列定义。

不连续discontinuities

裂纹、微孔、麻点、擦伤或暴露出不同底金属的彼盖层表面的其他开口。关于搜盖层的不连续详见附

录D(提示的附录)和附录G(提示的附录)中参考文献1「].

4原理

孔隙率试验结果以化学反应最终产物来表示，其中一些出现于原处，另一些则出现于纸上或胶状敷

层中。观察结果按照试验方法和由需方确定的试验项目表示。可目测或采用10倍显微镜观察，还可采

用放大照片或显微放大照片的方法进行观察，参见附录G中参考文献[1],[2],[3],[5」和「6](也可参

见附录A(标准的附录)孔隙率试验表和附录D金属和其他无机覆盖层不连续的分类)。

5孔隙率试脸的共同特点

孔隙率试验与特别涉及试验时间的腐蚀试验和老化试验不同，它基本是短暂试验。良好的孔隙率试

验过程必须对被孔隙暴露的底金属进行清洁、去极化和活化，并且浸蚀它，使其产生的腐蚀产物足以将

孔隙填充而达到扭盖层表面。在理想情况下，这种腐蚀作用不应与覆盖层表面起反应。对反应时间必须

加以限制，特别是对薄彼盖层，因为，腐蚀作用会向各个方向浸蚀基体，这样就会使覆盖层底部发生浸

蚀，以致得到假的观察结果。当腐蚀产物溶解于试剂中时，可用沉淀指示剂形成反应产物(见附录E(提

示的附录)孔隙率试验方法分类)。

6试翰试样

孔隙率试验一般都是破坏性的，用于评价基体涂(镀)覆加工的质量。因此，一般不允许有单独的试

验试样。

7具体的孔除率试验

了1茜素试验

7.1.1范围

适用于铝基体上的铬(包括Cu/Ni/C:和Ni/Ni/Cr),钻、铜、镍、镍一硼、镍一钻、镍一铁和镍一磷层。

7.1.2方法概要

在规定条件下用氢氧化钠、磺酸茜素钠、冰醋酸处理试样，生成的红色痕迹或斑点显示孔隙。试验程

序详见ISO4527，也见附录G中参考文献[9]，仁31〕和仁371.

7.2葱醒试验

7.2.1范围

GB/T17720-1999

适用于铝、镁或锌合金基体上的铬(包括Ni/Ni/Cr),钻、镍、镍一硼、镍一钻、镍一铁和镍一确层。

7.2.2方法概要

在规定条件下用氢氧化钠和1-氨基葱配-2-赦酸钾处理试样，生成的红色痕迹或斑点显示孔晾。试

验程序详见附录G中参考文献[13],

7.3硫化锅试验

7.3.1范围

适用于傲铜、黄铜、铜、磷青铜和银基体上的金属铬(包括Ni/Ni/Cr)、金、把、铂和锗层。

7.3.2方法概要

将滤纸在抓化锅溶液中浸湿，然后用硫化钠处理，在滤纸上沉淀出硫化锅。试验程序详见GB/T

12305.3,

7.4硫酸铜(Preece)试验

7.4.，范围

A种适用于铁、钢或铁基合金基体上的福和锌层。

B种适用于铝合金基体上厚度小于5dam的薄阳极氧化腆。

7.4.2方法概要

将试样浸于硫酸钥溶液，铝合金和铁合金基体分别浸于不同成分的溶液。铜的浅红色痕迹或斑点显

示铁基体上班盖层的孔隙，黑色痕迹或斑点显示铝合金基体上搜盖层的孔隙。试验程序详见附录G中

参考文献3〔8〕和GB/T8752,

7.5硫酸铜(Dupernell)试验

了.5.1范围

适用于铝、铁、炯或锌合金基体上的铜/镶层或镍/镶层上的铬层和微裂纹铭层或微孔铬层。

7.5.2方法概要

将试样作为酸性铰铜液的阴极，铜只沉积于基露的基休金属上或底层上，铬保持钝态。试验程序详

见GB/T9797,GB/T12600,GB/T11379以及附录G中参考文献[40〕和[41],

7.6腐蚀青试验(CORR)

7.6.1范围

适用于铝合金、塑料、钢和铁合金或锌合金基体上的铜/镍层或镶/镍层上的格层和徽裂纹铬层或

微孔铬层。

7.62方法概要

试样涂覆腐蚀性盐膏，然后干操。将被涂砚的试样在高相对湿度条件下暴露规定时间。试验程序详

见GB/T6465及附录G中参考文献2〔6]和[51],

7了电解显像试验

7.7.1范围

A种丙烯酞胺电解显像法(见7.7.2的“注意)，’适用于银或镶层上的金层以及铜基体上的镍层。

B种胶体电解显像法适用于铜上的金、钻、镍、把层以及镍上的金、铜、钻、把层和银基体上的金

层。

C种纸电解显像法适用的指示剂一班盖层/基体组合见表1，试样应具有平的表面或近于平的表

面。

表1

指示剂扭盖层/荃休

硫化福傲铜、黄铜、俐、礴青铜和银基体上的铬、金、把、铂和铭层

丁二阴厉黄炯、彼钥、铜、碑青铜、镶、镶一翻和镶一碑基体上的金、把、铂、施和银层

GB/T17720-1999

表1(完)

指示剂夜盖层/基体

红氨酸被铜、黄铜、铜和礴青铜基体上的铬、金、把、铂和锗层

环己二酮-肪镍、镶一翩、镍一铁、镍一磷和锡一镍基体上的金、把、铂和锗层

亚铁佩化钾黄铜、敏铜、铜和碑青铜荃体上的铬、金、把、铂和锗层

铁氛化钾黄铜、银和钢基体上的福、镍、锡和锌层

试镁灵镁基体上的铬、钻、钢、镍、镍一翻、镍一钻、镍一铁和镍一磷层

了.7.2方法概要

A种丙烯酞胺电解显像法

将含有硬化剂和指示剂的丙烯酞胺溶液在接近于胶化时倾于试样上，在盛氯化物溶液的电解池中

以试样作阳极，进行电解，试样上的色痕或斑点显示孔隙。试验程序详见附录G中参考文献7「],

注意:已鉴定丙烯酞胺为中枢神经致毒物质和致癌物质，应慎用。

B种胶体电解显像法

将透明的明胶、导电盐和指示剂的混合物置于电解池中，以金或铂作阴极，试样作阳极。允许混合胶

液随电解而固化。试样上的色痕或色斑显示孔隙。试验程序详见附录G中参考文献5〔2]0

C种纸电解显像法

试样夹在浸渍电解液的纸和浸演指示剂的纸之间作阳极，并用两个阴极盖(非活性材料，例如金或

不锈钢)夹住，按规定的电流(一般为0.15-1.55mA/cmz)经一定的时间(一般为10^-30s)通电。暴露

之后，用指示剂润湿试纸，然后使之干燥。

可采用各种商品试纸。试验程序详见GB/T12305.3及附录G中参考文献仁151,[181,[35口，[36〕和

[42],

7.8亚铁氛化物试验

7.8.1范围

适用于铜基上的铬、钻、金、镍、镍一硼、镍一铁、镍一磷、把、铂和锗层。

7.8.2方法概要

在规定条件下用冰醋酸、亚铁佩化钾处理试样，试样上的棕色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详见

ISO4527及附录G中参考文献仁12]和仁37],

7.9试铁灵试验

7.9.1范围

适用于钢铁基体上的铝、黄铜、锡、铬、钻、锢、铅、镍、镍一硼、镍一磷、搪瓷、有机膜、银、锡、锡一铅、锡-

镍、锡一锌和锌层。

7.9.2方法概要

在规定条件下用酸和。.1%试铁灵(8-经基哇琳-7一碘一5-磺酸)溶液处理试样，试样上的红色痕迹或

斑点显示孔隙。试验程序详见附录G中参考文献仁4],

7.10铁试剂试验

7.10.1范围

适用于在试验过程中不与铁氛化物和抓离子发生明显作用，并对铁或钢基体呈阴极性的金属覆盖

层(例如黄铜、铬、钻、铜、金、锢、铅、镍、镍一硼、镍一磷、银、锡、锡一铅和锡一镍层)以及有机膜和搪瓷。

7.10.2方法概要

将用抓化钠电解液润湿的、并经抓化钠凝胶处理的纸带与试样表面紧密地接触一定时间，然后，用

铁氛化物指示剂溶液适当润湿纸带，纸带上的蓝色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序见GB/T12332,

GB/T17721,1SO4527及附录G中参考文献[29],[35],[36],[39〕和[43]0

GB/T17720-1999

7.11硫华孔隙试验

7.11.1范围

主要适用于铜、铜合金或银基体上的金和镍层。也适用于在还原硫气氛中不明显变色的其他覆盖

层。

7.11.2方法概要

将试样悬挂于容器中硫华的上方，在这封闭系统中经历规定的时间。悬挂架和容器均由非活性材料

制成，容器的湿度可控制，温度可升至50'C。试样上的痕迹、斑点或退色显示孔隙。试验程序详见附录G

中参考文献4「41,

7门2热水试验

7门2.1范围

适用于对铁基体呈阴极性的金属覆盖层(例如铁、可伐(Ni-Fe-Co)合金或钢基体上的黄铜、铜、金、

锢、镍、镍一硼、镍一磷、锡、锡一铅和锡一镍层)以及钢基体上的釉瓷、搪瓷和有机膜。

7门2.2方法概要

在室温下置试样于盛满中性充气水的玻璃容器中，加热容器，让水在15^20min内沸腾，并继续沸

腾30min，取出试样干燥后，黑色痕迹或斑点以及红锈显示孔隙。试验程序详见ISO4527以及附录G

中参考文献仁37口和4〔31

7.13硫化氢或二氧化硫/硫化氢试验

7.13.1范围

A种适用于被铜、黄铜、铜、磷青铜和银基体上厚度小于5pan的金、把或铭层。

B种适用于被铜、黄铜、铜、镍、镍一硼、镍一磷、磷青铜或银基体上的厚度大于5pm的金、把、锗、

锡、锡一铅或锡一镍层。

7门3.2方法概要

A种将试样悬挂于盛有新生成硫化氢气体的容器中，经过规定时间，一般为24h，试样表面七的

色斑显示孔隙。挂具和容器均由非活性材料制成。试验程序详见附录G中参考文献2「71,

B种将试样悬挂于盛有新生成二氧化硫气体的容器中，经过规定时间，一般为24h;紧接着挂在

新生成的硫化氢气体的容器中，再经过规定时间，一般为24h。表面上的色斑显示孔隙，挂具和容器均

由非活性材料制成。试验程序详见附录G中参考文献1「7习。

7.14苏木试验

7.14门范围

适用于铝基体上的黄铜层或黄铜和铜基体上的银层。

7门4.2方法概要

将用苏木精处理过的纸带浸于水中，然后使纸带紧密与试样表面接触，经过规定时间，检查纸带，出

现的蓝色痕迹或斑点显示孔隙。试验方法详见附录G中参考文献[8〕和[1170

7门5试镁灵试验

7门5门范围

适用于镁基体上的铬、钻、铜、镍、镍一硼、镍一钻、镍一铁和镍一磷层。

7.15.2方法概要

用氢氧化钠处理试样，将滤纸浸于。.01%对一硝基苯一偶氮一间苯二酚的乙醇溶液中以制备试镁灵试

纸。将试纸干燥并置于已处理的试样的表面。红色背景上出现的蓝色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序

详见附录G中参考文献[151.

7.16硝酸气氛试验

7.16.1范围

适用于敏铜、黄铜、铜、镍、镍一硼、镍一磷、磷青铜和锡一镍基体上的金层。

GB/T17720-1999

7.16.2方法概要

将浓硝酸置于非活性材料制成的容器中，盖上容器，在规定的环境中放置。.5h，以形成稳定的酸

气氛。

将试样悬挂于此密闭系统的气氛中，经过规定的时间，铜合金基体为Ih,镍基体为2h，然后烘干

试样，以固定反应产物。反应产物一般均突起于表面，每一反应产物的痕迹或斑点均显示出一处覆盖层

中的孔隙。试验程序详见GB/T12305.2及附录G中参考文献4「51.

7.178-经基哇琳试验

7门7.1范围

适用于铝、镁和锌基体上的铬、钻、铜、镍、镍一硼、镍一钻、镍一铁和镍一磷层。

7.17.2方法概要

用氢氧化钠处理试样，将滤纸浸于5%的8-轻基哇琳的乙醇溶液中以制备8-轻基哇琳试纸。将试纸

干燥并置于已处理的试样的表面，色痕或斑点显示孔隙。试验程序详见附录G中参考文献1「0口和[141

7.18高锰酸盐试验

7.18.1范围

适用于铁、钢或铁基合金基体上的铝、锅和锌层。

7.18.2方法概要

将试样浸于稀高锰酸钾溶液中，出现的二氧化锰的黑色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详见附录G

中参考文献[81.

了.19多硫化物试验

7.19.1范围

适用于铁铜、黄铜、铜和磷青铜基体上的锡、锡一镍和锡一锌金属覆盖层。

7门9.2方法概要

用溶剂清洗试样，然后浸于多硫化钠溶液中，试样上出现的黑色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详

见附录G中参考文献[467.

7.20。一亚硝基一P-}酚试验

7.20.1范围

适用于对铁、钢或铁基合金基体呈阴极性的金属覆盖层，如黄铜、铬、铜、金、镍、镍一硼、镍一磷、锡、锡

一镍层及其合金层。

7.20.2方法概要

将用a一亚硝基一P-蔡酚处理过的纸带浸于水中或浸于能加速反应的5%的氯化钠溶液中，然后将纸

带与试样表面紧密接触，经过规定的时间，检查纸带，其上的绿色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详见附

录G中参考文献[81.

7.21盐雾试验「中性盐雾试验(NSS)、醋酸盐雾试验(AASS)、铜加速醋酸盐雾试验(CASS)]

7.21.1范围

适用于在试验过程中不与氯离子发生明显作用，并对铁、钢或铁基合金基体呈阴极性的金属覆盖

层，例如黄铜、铬、钻、铜、金、铅、镍、镍一硼、镍一磷、锡、锡一铅和锡一镍层，也适用于铝、镁、锌基体上的铜/镍

层上的铬层和镍/镍层上的铬层

7.21.2方法概要

将试样放于箱内，并经5%氯化钠溶液的喷雾。铁、钢或铁基合金基体上的红锈、黑色痕迹或斑点以

及铝、镁或锌合金基体上的覆盖层中的气泡、白色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详见GB/T10125及

附录G中参考文献[32],[33习.[477和[48]

7.22二氧化硫试验

7-22.1范围

GB/T17720-1999

A种适用于铜、铜合金和镍基体上的金层。

B种适用于银基体上的金层。

C种适用于铜、铜合金和钢基体上的锡、锡一铅和锡一镍层。

7.22.2方法概要

将试样用挂具悬挂于新生成的二氧化硫气氛的容器中，经过规定的时间，通常为24h。挂具和容器

均由非活性材料制成。作为腐蚀气氛的二氧化硫的浓度按A,B,C三类(覆盖层与基体组合)进行选择。

试样表面上的色斑显示孔隙。试验程序详见GB/T12305.2和GB/T9798及附录G中的参考文献

[28皿,[321,[351,[49〕和5〔0],

7.23亚硫酸/二氧化硫气氛试验

7.23.，范围

适用于钱一铜、黄铜、铜、镍、镍一硼、镍一磷和磷一青铜基体上的金和把层。

7.23.2方法概要

将试样用挂具悬挂于亚硫酸/二氧化硫气氛的容器中，经过规定时间，一般为24h。试样表面上的

色斑显示孔隙。挂具和容器由非活性材料制成。试验程序详见附录G中参考文献5〔3口。

7.24硫氰酸盐试验

7.24门范围

适用于在试验过程中不与硫氰酸盐和氯离子发生明显作用，并对铁或钢合金基体呈阴极性的金属

覆盖层，例如铬、铜、镍、镍一硼、镍一磷、锡、锡一镍及其合金层。

7.24.2方法概要

将用氯化钠电解液润湿的、并经氯化钠凝胶处理的纸带与试样表面紧密地接触于规定的时间。然

后，用硫氰酸盐指示剂溶液适当润湿纸带，红色痕迹或斑点显示孔隙。试验程序详见附录G中参考文献

[8]0

7.25硫代乙酞胺试验(TAA)

7.25门范围

适用于铜、铜合金和银基体上的金、镍或锡层，也适用于黄铜、铜或银基体上的有机覆盖层。

7.25.2方法概要

将试样悬挂于以饱和乙酸钠溶液来控制湿度(75%RH)的盛硫代乙酸胺晶体的密闭容器中，在

25C经历规定的时间。挂具和容器均用非活性材料制成。痕迹、斑点或退色显示孔隙。试验程序详见ISO

4538及附录G中参考文献[16],

了.26表壳的乙酸试验

7.26.1范围

适用于含镍或不含镍的铜合金和锌基合金压铸件上的金层。

7.26.2方法概要

将试样悬挂于充满乙酸气氛的容器中，在(23士2)℃恒温24h。挂具及容器均用非活性材料制成

试验程序详见ISO3160.20

了.2了表壳的亚硫酸氢钠试验

7.27.1范围

适用于铁合金上的金层

7，2了.2方法概要

将试样悬挂于充满亚硫酸氢钠气氛的容器中，在((23士2)C恒温24h。挂具和容器均用非活性材料

制成。试验方法详见ISO3160.2

Gs/T17720-1999

附录A

(标准的附录)

孔隙率试验表

表A1

基体或底层

覆盖层铜合金铁合金

铝合金

傲一铜黄铜铜磷一青铜铸铁和钢可伐

铝9,189

阳极氧化铝4B

9,10,12,

黄铜149,10,12

20,21

锡7C64A,7C6,9,184A,9

铬酸盐转化膜2111

5,6,9,10,

1,2,5,63,7C1,3,7C1,3,7C1,3,7C1,5,6,9,10,

铬12,20,21,

177C3,7C57C3,7C57C3,7C5,87C3,7C512

24

1,2,5,6,5,6,9,10,

双层镍+铬3,7C53,7C53,7C53,7C5,6.9,10

17,2120,21

飞，2，5，6，5,6,9,10,

铜十一镍斗铬3,7C3,7C53,7C53,7C55,6.9,10

17,2120,21

9,10,12,

钻112,178,7B9,10,12

21

铜一1,1710,12,20,10,12

21,24

3,7B,7Cl,

3,701,3,701,3,701,

7C2,7C3,

7C2,7C3,7C2,7C3,7C2,7C3,

705,8,11,

7C5,11,7C5,11,705,1110,12,20,

金13A,13B,10,12

13A,13B,13A,13B,13A,13B,21,27

16,22A,

16,22A,16,22A,16,22A,

23,24,25,

23,25,2623,25,2623,25,26

26

锢9,10,129,10,12

9,10,12,

铅9,10,12

21,22

1,706,9,

1,7A,7B,

镍1,2,1711,25706,11,2511,2510,12,20,9,10,12

10,11,25

21,24

cB/T17720-1999

表A1(续)

基体或底层

被盖层铜合金铁合金

铝合金

被一铜黄铜铜磷一青铜铸铁和钢可伐

9,10,12,20,

镍一硼1,2,1711,2511,258,11,2511,259,10,12

21,24

镍钻1,2,1711111111

镍一铁1,2,1711111111

9,10,12,20,

镍磷1,2,1711,2511,258,11,251