GB/T 48095-2026 高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法

GB/T 48095-2026 Measurement method for topographic parameters of high-aspect-ratio microstructures utilize microscopic interferometry

国家标准 中文简体 即将实施 页数:28页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 48095-2026
标准类型
国家标准
标准状态
即将实施
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2026-08-28
实施日期
2027-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国光电测量标准化技术委员会(SAC/TC 487)、全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本文件描述了高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法的测量原理、测量装置、测量环境、样品、测量步骤、数据处理以及测量报告。
本文件适用于对可见光或近红外光透明的微纳器件中深宽比不大于50的高深宽比微结构形貌参数的检测与测量。

发布历史

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研制信息

起草单位:
南京理工大学、上海市计量测试技术研究院有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司、中国科学院微电子研究所、中国计量科学研究院、中国科学院空天信息创新研究院、齐之明光电智能科技(苏州)有限公司、南京智群光电技术有限公司、苏州热工研究院有限公司、浙江大学苏州工业技术研究院、无锡华润上华科技有限公司
起草人:
高志山、袁群、马剑秋、霍霄、雷李华、赵琳、何洪涛、徐爱东、时文华、鞠涛、史云涛、周维虎、施玉书、王璞、巩岩、李季、罗坤杰、徐志毅、陈红、夏长奉
出版信息:
页数:28页 | 字数:41 千字 | 开本: 大16开

内容描述

ICS1718099

CCSL.50.

中华人民共和国国家标准

GB/T48095—2026

高深宽比微结构形貌参数

显微干涉测量方法

Measurementmethodfortopographicparametersofhigh-aspect-ratio

microstructuresutilizemicroscopicinterferometry

2026-08-28发布2027-03-01实施

国家市场监督管理总局发布

国家标准化管理委员会

GB/T48095—2026

目次

前言

…………………………Ⅲ

范围

1………………………1

规范性引用文件

2…………………………1

术语和定义

3………………1

测量原理

4…………………3

测量装置

5…………………4

装置组成

5.1……………4

科勒照明模块

5.2………………………5

测试光路模块

5.3………………………6

参考光路模块

5.4………………………6

调制相位测量模块

5.5…………………6

变形镜补偿模块

5.6……………………6

调焦模块

5.7……………6

垂直扫描模块

5.8………………………6

干涉图采集模块

5.9……………………6

控制与数据处理模块

5.10………………6

测量环境

6…………………7

样品

7………………………7

测量步骤

8…………………7

数据处理

9…………………8

概述

9.1…………………8

线宽

9.2…………………8

深度

9.3…………………8

平均粗糙度

9.4…………………………9

测量不确定度

9.5………………………9

深宽比

9.6………………10

测量报告

10………………10

附录资料性高深宽比微结构形貌复原算法

A()………12

附录资料性测量不确定度计算示例

B()………………13

附录资料性高深宽比微结构形貌参数测量报告格式

C()……………14

附录资料性高深宽比微结构形貌参数测量示例

D()…………………15

参考文献

……………………21

Ⅰ

GB/T48095—2026

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由中国科学院提出

。

本文件由全国光电测量标准化技术委员会与全国微机电技术标准化技术委员会

(SAC/TC487)

共同归口

(SAC/TC336)。

本文件起草单位南京理工大学上海市计量测试技术研究院有限公司中国电子科技集团公司第

:、、

十三研究所中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公

、、

司中国科学院微电子研究所中国计量科学研究院中国科学院空天信息创新研究院齐之明光电智能

、、、、

科技苏州有限公司南京智群光电技术有限公司苏州热工研究院有限公司浙江大学苏州工业技术

()、、、

研究院无锡华润上华科技有限公司

、。

本文件主要起草人高志山袁群马剑秋霍霄雷李华赵琳何洪涛徐爱东时文华鞠涛

:、、、、、、、、、、

史云涛周维虎施玉书王璞巩岩李季罗坤杰徐志毅陈红夏长奉

、、、、、、、、、。

Ⅲ

GB/T48095—2026

高深宽比微结构形貌参数

显微干涉测量方法

1范围

本文件描述了高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法的测量原理测量装置测量环境样品

、、、、

测量步骤数据处理以及测量报告

、。

本文件适用于对可见光或近红外光透明的微纳器件中深宽比不大于的高深宽比微结构形貌参

50

数的检测与测量

。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

产品几何技术规范表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值

GB/T1031—2009(GPS)

洁净室及相关受控环境第部分按粒子浓度划分空气洁净度等级

GB/T25915.1—20211:

测量不确定度评定和表示

GB/T27418—2017

产品几何技术规范表面结构区域法第部分实物测量

GB/T33523.70—2020(GPS)70:

标准

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件

。

31

.

微结构microstructure

线宽深度等特征尺度在微米及其以下量级的结构

、。

注高深宽比微结构的线宽范围为

:0.5μm~40.0μm。

32

.

线宽linewidth

高深宽比微结构顶部或底部水平基准线与侧壁近似线交点之间的距离

。

注线宽的示意图见图水平基准线与侧壁近似线由最小二乘法拟合采样点坐标获取

:1。。

1

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