T/CNIA 0175-2022 多晶硅生产固定污染源含氢排气中气态污染物采样方法

T/CNIA 0175-2022 Sampling method for gaseous pollutants in fixed source exhaust containing hydrogen during production of polycrystalline silicon

团体标准 中文(简体) 现行 页数:0页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
T/CNIA 0175-2022
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
-
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2022-12-21
实施日期
2023-06-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样方法。本文件适用于多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样

发布历史

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研制信息

起草单位:
亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、四川永祥多晶硅有限公司
起草人:
李鸿贤、魏东亮、王茜、李彦、毛建伟、李铁、巨龙、邱艳梅、于生海、刘文明、王彬、李寿琴
出版信息:
页数:- | 字数:- | 开本: -

内容描述

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