T/CNIA 0143-2022 半导体材料痕量杂质分析用超纯树脂器皿
T/CNIA 0143-2022 Super-pure resin container for trace impurity analysis of semiconductor materials
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNIA 0143-2022
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2022-02-28
实施日期
2022-08-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了半导体材料痕量杂质（ng/kg～μg/kg级别）分析用超纯树脂器皿（以下简称器皿）的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容
发布历史
-
2022年02月
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研制信息
- 起草单位：
- 江苏赛夫特半导体材料检测技术有限公司、北京诚驿恒仪科技有限公司、苏州汉谱埃文材料科技有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、集萃新材料研发有限公司、新特能源股份有限公司
- 起草人：
- 鲁文锋、胡军波、刘晓霞、刘翠、王桃霞、邱艳梅
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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