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T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

T/CNIA 0061-2020 Determination of impurity content in silicon epitaxy using inductively coupled plasma mass spectrometry

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CNIA 0061-2020
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
L90/94 电子设备与专用材料、零件、结构件
国际标准分类号（ICS）
77.040.01 金属材料试验综合
发布日期
2020-05-27
实施日期
2020-08-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g

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研制信息

起草单位：
洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司
起草人：
严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

暂无内容

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