YS/T 922-2013 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
YS/T 922-2013 Methods for chemical analysis of high purity copper—Determination of trace impurity elements content—Glow discharge mass spectrometry
基本信息
本标准适用于高纯铜中痕量杂质元素含量的测定。各元素测定范围如下:硫、硒元素的测定范围为10 μg/kg~5 000 μg/kg,其余元素的测定范围为1 μg/kg~5 000 μg/kg。
发布历史
-
2013年10月
研制信息
- 起草单位:
- 金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
- 起草人:
- 王长华、秦芳林、王攀峰、刘英、孙泽明、李继东、童坚、臧慕文、邱平、文英、尚再艳
- 出版信息:
- 页数:6页 | 字数:10 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS77.120.30
H13
中华人民共和国有色金属行业标准
/—
YST9222013
高纯铜化学分析方法
痕量杂质元素含量的测定
ㅤㅤㅤㅤ
辉光放电质谱法
—
Methodsforchemicalanalsisofhihuritcoer
ygpypp
—
Determinationoftraceimuritelementscontent
py
Glowdischaremasssectrometr
gpy
2013-10-17发布2014-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
/—
YST9222013
高纯铜化学分析方法
痕量杂质元素含量的测定
辉光放电质谱法
1范围
,。
本标准规定了高纯铜中痕量杂质元素含量的测定方法测定元素见表1
。:、
本标准适用于高纯铜中痕量杂质元素含量的测定各元素测定范围如下硫硒元素的测定范围为
//,//。
10gk~5000k其余元素的测定范围为1k~5000k
μgμggμggμgg
2方法原理
,,
试料作为阴极进行辉光放电在氩气氛下其表面原子被溅射而脱离试料进入辉光放电等离子体
,。
中在等离子体中离子化后被导入质谱仪在每一元素同位素质量数处以预设的扫描点数和积分时间
,,()。,
对相应谱峰积分所得面积即为谱峰强度元素含量用式求出无标准样品时计算机根据仪器软件
1
“”;,
中的典型相对灵敏度因子自动计算出各元素的质量分数有标准样品时需通过在与被测样品相同的
、,
分析条件离子源结构以及测试条件下对标准样品进行独立测定获得相对灵敏度因子应用该相对灵敏
ㅤㅤㅤㅤ
度因子计算出各元素的质量分数。
3试剂与材料
,;。
除非另有说明分析中所用的试剂均为优级纯所用的水为一级水
3.1硝酸()。
1+1
,//。
3.2铜标准样品被测元素质量分数在50k~500k之间
μggμgg
,。
仪器背景监控样品被测元素质量分数低于被测试样的倍以上
3.310
()。
3.4氩气纯度≥99.999%
()。
3.5氮气纯度≥99.99%
4仪器
,,
4.1高质量分辨率辉光放电质谱仪中分辨率模式下分辨率可达3000~4000高分辨率模式下分辨
率可达9000~10000。
639
。,
4.2测定同位素及分辨率见表测定时要求同位素的谱峰强度不小于峰形符合分
1Cu5×10cs
定制服务
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