T/CNIA 0020-2019 氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
T/CNIA 0020-2019 Determination of Impurity Content in Resin Catalyst for Chlorosilane Sulfidation Reaction Using Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy (ICP-AES)
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
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格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNIA 0020-2019
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2019-02-13
实施日期
2019-06-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定方法。本标准适用于氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中硼、磷、铝、铬、铁、镍、铜、锌含量的测定
发布历史
-
2019年02月
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研制信息
- 起草单位：
- 内蒙古神舟硅业有限责任公司、亚洲硅业（青海）有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、内蒙古盾安光伏科技有限公司、新特新能材料检测中心有限公司
- 起草人：
- 赵英、刘淑萍、董燕军、李东升、曹忠、李辉、宗凤云、蔡延国、曹俊英、侯海波、邱艳梅、曹岩德
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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