T/CNIA 0020-2019 氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

T/CNIA 0020-2019 Determination of Impurity Content in Resin Catalyst for Chlorosilane Sulfidation Reaction Using Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy (ICP-AES)

团体标准 中文(简体) 现行 页数:0页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
T/CNIA 0020-2019
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2019-02-13
实施日期
2019-06-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定方法。本标准适用于氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中硼、磷、铝、铬、铁、镍、铜、锌含量的测定

文前页预览

当前资源暂不支持预览

研制信息

起草单位:
内蒙古神舟硅业有限责任公司、亚洲硅业(青海)有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、内蒙古盾安光伏科技有限公司、新特新能材料检测中心有限公司
起草人:
赵英、刘淑萍、董燕军、李东升、曹忠、李辉、宗凤云、蔡延国、曹俊英、侯海波、邱艳梅、曹岩德
出版信息:
页数:- | 字数:- | 开本: -

内容描述

暂无内容

定制服务

    推荐标准

    相似标准推荐

    更多>