T/QGCML 2307-2023 光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求
T/QGCML 2307-2023 Low metal content tetramethyl guanidine methoxyethyl acetate (TMGA) for photoresist production technology requirements
基本信息
发布历史
-
2023年11月
研制信息
- 起草单位:
- 太原科源达精细化工有限公司、太原化学工业集团有限公司、太原市埃斯维达化工科技有限公司
- 起草人:
- 崔文华、白晓宇、张建成、张孝、胡向军、邢继武、安江辉、裴少琳、卫荣荣、陈嘉伟、曲军、尹渊、尹一航、白文英、蔚舒、王杨、张婕
- 出版信息:
- 页数:8页 | 字数:- | 开本: -
内容描述
ICS71.100.01
CCSG15
团体标准
T/QGCML2307—2023
光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产
技术要求
Technicalrequirementsfortheproductionoflowmetalcontenttetramethoxymethyl
glyureaforphotoresist
2023-11-27发布2023-12-12实施
全国城市工业品贸易中心联合会 发布
T/QGCML2307—2023
目次
前言..................................................................................II
1范围................................................................................1
2规范性引用文件......................................................................1
3术语和定义..........................................................................1
4技术要求............................................................................1
5试验方法............................................................................1
6检验规则............................................................................4
7标志、包装、运输和贮存..............................................................4
I
T/QGCML2307—2023
前言
本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。
本文件起草单位:太原科源达精细化工有限公司、太原化学工业集团有限公司、太原市埃斯维达化
工科技有限公司。
本文件主要起草人:崔文华、白晓宇、张建成、张孝、胡向军、邢继武、安江辉、裴少琳、卫荣荣、
陈嘉伟、曲军、尹渊、尹一航、白文英、蔚舒、王杨、张婕。
II
T/QGCML2307—2023
光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求
1范围
本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求的术语和定义、技术要求、试验方
法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。
本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产和检验。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,
仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本
文件。
GB/T191包装储运图示标志
GB/T6679固体化工产品采样通则
GB/T6682实验室用水规格
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
四甲氧甲基甘脲tet
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