T/QGCML 2307-2023 光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求
T/QGCML 2307-2023 Low metal content tetramethyl guanidine methoxyethyl acetate (TMGA) for photoresist production technology requirements
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/QGCML 2307-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2023-11-24
实施日期
2023-12-12
发布单位/组织
-
归口单位
全国城市工业品贸易中心联合会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产和检验
发布历史
-
2023年11月
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研制信息
- 起草单位：
- 太原科源达精细化工有限公司、太原化学工业集团有限公司、太原市埃斯维达化工科技有限公司
- 起草人：
- 崔文华、白晓宇、张建成、张孝、胡向军、邢继武、安江辉、裴少琳、卫荣荣、陈嘉伟、曲军、尹渊、尹一航、白文英、蔚舒、王杨、张婕
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
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