SJ 20714-1998 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
SJ 20714-1998 Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
行业标准-电子
中文(简体)
现行
页数:4页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
SJ 20714-1998
标准类型
行业标准-电子
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
-
国际标准分类号(ICS)
-
发布日期
1998-03-18
实施日期
1998-05-01
发布单位/组织
-
归口单位
-
适用范围
-
发布历史
-
1998年03月
研制信息
- 起草单位:
- 电子工业部第四十六研究所
- 起草人:
- 张世敏、郝建民、段曙光
- 出版信息:
- 页数:4页 | 字数:- | 开本: -
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- JB/T 8045.2-1999 机床夹具零件及部件 可换钻套 1999-08-06
- QJ 903.6A-1995 航天产品工艺文件管理制度 工艺文件更改规定 1995-08-03
- JT/T 838-2012 细集料流动时间测定仪 2012-09-26
- QJ 1587-1989 基本建设工程档案管理规定 1989-01-04
- SJ 2980-1988 组合冲模零件技术条件 1988-03-28
- HB 6723.1-1993 深度游标卡尺技术条件 1993-08-01
- JB/T 5519-1991 高速冷冻离心机 1991-07-16
- JB/T 10125-1999 机床夹具零件及部件 花盘 1999-08-06
- GA/T 221-1999 物证检验照相要求规则 1999-09-21
- EJ/T 577-1991 多道分析器作为多路定标器时的测试方法 1991-10-11