T/CIECCPA 007-2024 半导体工业氮氧化物排放要求

ICS13.040.40

CCSZ05

团体标准

T/CIECCPA007—2024

半导体工业氮氧化物排放要求

SemiconductorIndustryNitrogenOxideEmissionRequirements

2024–03–04发布2024–03–08实施

中国工业节能与清洁生产协会发布

T/CIECCPA007—2024

目次

前言.....................................................................................................................................................................II

1范围.......................................................................................................................................................................1

2规范性引用文件...................................................................................................................................................1

3术语和定义...........................................................................................................................................................1

4氮氧化物排放限值...............................................................................................................................................2

5氮氧化物排放限值要求适用范围.......................................................................................................................2

6氮氧化物检测要求...............................................................................................................................................3

附录A单一排气筒的排放速率计算方法................................................................................................................4

附录B氮氧化物推荐处理方案................................................................................................................................5

附录C现行地方氮氧化物排放限值与监测标准....................................................................................................7

图B.1氧化还原吸收法流程图.................................................................................................................................5

图B.2碱液吸收法流程图..........................................................................................................................................6

表1氮氧化物排放限值.............................................................................................................................................2

表2氮氧化物污染物浓度测定方法标准.................................................................................................................3

表C.1现行地方氮氧化物排放限值.........................................................................................................................7

表C.2现行地方氮氧化物监测标准.........................................................................................................................7

I

T/CIECCPA007—2024

前言

本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由中国工业节能与清洁生产协会提出并归口。

本文件主要起草单位：浙江芯科半导体有限公司、杭州慧翔电液技术开发有限公司、上海兄弟微电子

技术有限公司、大连华邦化学有限公司、东莞南方半导体科技有限公司、苏州艾特斯环保设备有限公司、

上海协和环境设备有限公司。

本文件主要起草人：李京波、王小周、张梦龙、刘黎明、张瀛、周礼誉、高嵩、杨荣博、钱昊、韩理

想、袁松、王琨强、汪禹、邓向辉、阳志超、乔良、周阳、李双、王浩清、张坤。

II

T/CIECCPA007—2024

半导体工业氮氧化物排放要求

1范围

本文件规定了半导体行业工业生产过程中产生的大气污染物氮氧化物排放标准限值、检测要求、

达标判定的要求。

本文件适用于半导体工业氮氧化物排放。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的，下列文件所包含的条文，凡是不注日期的引用文件，

其最新版本（包括所有的修改单）适用于本标准。

GB3095环境空气质量标准

GB16297大气污染物综合排放标准

HJ/T42固定污染源排气中氮氧化物的测定紫外分光光度法

HJ/T43固定污染源排气中氮氧化物的测定盐酸萘乙二胺分光光度法

HJ/T55大气污染物无组织排放检测技术导则

HJ/T193环境空气质量自动检测技术规范

HJ/T194环境空气质量手工检测技术规范

HJ/T397固定源废气检测技术规范

HJ675固定污染源排气氮氧化物的测定酸碱滴定法

HJ692固定