T/CNIA 0116-2021 多晶硅生产尾气净化用活性炭中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
T/CNIA 0116-2021 Determination of Impurity Content in Activated Carbon for Polysilicon Production Tail Gas Purification Using Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy (ICP-AES)
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNIA 0116-2021
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2021-03-19
实施日期
2021-09-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定多晶硅生产尾气净化用活性炭中硼、磷、铝、铬、铁、镍、铜、锌含量的方法。本文件适用于多晶硅生产尾气净化用活性炭中硼、磷、铝、铬、铁、镍、铜、锌含量的测定
发布历史
-
2021年03月
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研制信息
- 起草单位：
- 内蒙古神舟硅业有限责任公司、洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、四川永祥多晶硅有限公司、内蒙古盾安光伏科技有限公司
- 起草人：
- 赵英、董燕军、姜海明、宋佳宁、何生强、董楠、李丽婷、刘凤华、田润朝、王彬、李兰兰、魏强、崔世超
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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