T/CPIA 0059-2024 晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备
T/CPIA 0059-2024 Low-pressure chemical vapor deposition equipment for crystalline silicon photovoltaic cells
基本信息
发布历史
-
2024年03月
研制信息
- 起草单位:
- 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司、无锡市检验检测认证研究院、中国电子技术标准化研究院、北京北方华创微电子装备有限公司、湖南红太阳光电科技有限公司、江苏协鑫硅材料科技发展有限公司、嘉兴阿特斯技术研究院有限公司、一道新能源科技股份有限公司、正泰新能科技有限公司、晶澳太阳能科技有限公司、英利能源发展有限公司、常州大学(江苏省光伏科学与工程协同创新中心)、扬州大学、国信认证无锡有限公司、宁夏国信检研科技有限公司
- 起草人:
- 罗伟斌、张勇、恽旻、吴晓丽、王赶强、孙朋涛、吴志明、王晨光、杨宝立、苏磊、李硕、章康平、甘曌、王建勃、马红娜、袁宁一、李绿洲、钦卫国、王炳楠
- 出版信息:
- 页数:1页 | 字数:19 千字 | 开本: -
内容描述
ICS27.160
CCSL95
团体标准
T/CPIA0059—2024
晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备
Lowpressurechemicalvapordepositionequipmentusedforcrystalline
siliconphotovoltaiccells
2024-03-10发布2024-03-15实施
中国光伏行业协会 发布
T/CPIA0059—2024
目次
前言.................................................................................III
1范围................................................................................1
2规范性引用文件......................................................................1
3术语和定义..........................................................................1
4工作环境............................................................................2
5技术要求............................................................................2
5.1外观及结构要求..................................................................2
5.2基本性能........................................................................2
5.3工艺运行自动化控制..............................................................3
5.4安全要求........................................................................3
5.5可靠性..........................................................................3
5.6噪声............................................................................3
5.7电磁兼容性......................................................................3
6检验方法............................................................................3
6.1检验设备及仪器..................................................................3
6.2外观及结构检查..................................................................4
6.3基本性能检测....................................................................4
6.4工艺运行自动化控制检验..........................................................6
6.5安全要求检测....................................................................6
6.6可靠性检测......................................................................6
6.7噪声检测........................................................................6
6.8电磁兼容性检测..................................................................6
7交付检验............................................................................6
8标志、包装、搬运和运输、贮存........................................................7
8.1标志............................................................................7
8.2包装............................................................................8
8.3搬运和运输......................................................................8
8.4储存............................................................................8
I
T/CPIA0059—2024
前言
本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由中国光伏行业协会标准化技术委员会提出。
本文件由中国光伏行业协会标准化技术委员会归口。
本文件起草单位:深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司、无锡市检验检测认证研究院、中国电
子技术标准化研究院、北京北方华创微电子装备有限公司、湖南红太阳光电科技有限公司、江苏协鑫硅
材料科技发展有限公司、嘉兴阿特斯技术研究院有限公司、一道新能源科技股份有限公司、正泰新能科
技有限公司、晶澳太阳能科技有限公司、英利能源发展有限公司、常州大学(江苏省光伏科学与工程协
同创新中心)、扬州大学、国信认证无锡有限公司、宁夏国信检研科技有限公司。
本文件主要起草人:罗伟斌、张勇、恽旻、吴晓丽、王赶强、孙朋涛、吴志明、王晨光、杨宝立、
苏磊、李硕、章康平、甘曌、王建勃、马红娜、袁宁一、李绿洲、钦卫国、王炳楠。
III
T/CPIA0059—2024
晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备
1范围
本文件规定了晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备(以下简称“LPCVD设备”)的术语和定义、
工作环境、技术要求、基本性能、检验方法、交付检验以及标志、包装、搬运和运输、贮存。
本文件适用于晶体硅光伏电池用管式LPCVD设备的生产及检验。其他类型LPCVD设备可参考使用。
LPCVD设备可进行隧穿氧化层、本征多晶硅(Poly-Si)层、原位掺杂多晶硅(Poly-Si)层等的工艺制
备。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,
仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本
文件。
GB/T191包装储运图示标志
GB/T2297太阳光伏能源系统术语
GB2894—2008安全标志及其使用导则
GB/T5080.7设备可靠性试验恒定失效率假设下的失效率与平均无故障时间的验证试验方案
GB/T5226.1—2019机械电气安全机械电气设备第1部分:通用技术条件
GB/T6388运输包装收发货标志
GB/T11164—2011真空镀膜设备通用技术条件
GB/T13306标牌
GB/T13384机电产品包装通用技术条件
GB/T25915.1—2021洁净室及相关受控环境第1部分:空气洁净度等级
GB/T30116半导体生产设施电磁兼容性要求
GB51401电子工业废气处理工程设计标准
CB/T3764—1996金属镀层和化学覆盖层厚度系列及质量要求
SJ/T10674—1995涂料涂覆通用技术条件
SJ20984—2008化学气相淀积设备
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