T/CEATEC 269-2026 半导体制造工艺腔室温度场均匀性测试与评价方法
T/CEATEC 269-2026 " Test and evaluation method of temperature field uniformity in semiconductor manufacturing process chamber "
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CEATEC 269-2026
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2026-08-26
实施日期
2026-08-26
发布单位/组织
-
归口单位
中国欧洲经济技术合作协会
适用范围
-
发布历史
-
2026年08月
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研制信息
- 起草单位：
- 无锡冠亚恒温制冷技术有限公司、北京京仪自动化装备技术股份有限公司、杭州先导热电科技有限公司、北京同洲维普科技有限公司、广州荣硕电子科技股份有限公司
- 起草人：
- 颜厥枝、曹小康、于浩、芮守祯、仝高强、余抒怡、刘岩松、孙世国、莫新敏
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
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