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T/CNIA 0118-2021 电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

T/CNIA 0118-2021 Determination of Trace Impurity Element Content in High-purity Hydrofluoric Acid for Electronic Industry Using Inductively Coupled Plasma Mass Spectroscopy (ICP-MS)

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CNIA 0118-2021
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
-
国际标准分类号（ICS）
71.040.40 化学分析
发布日期
2021-03-19
实施日期
2021-09-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本文件规定了电感耦合等离子体质谱法测定电子工业用高纯氢氟酸中杂质元素（铝、锑、砷、钡、硼、镉、钙、铬、铜、铁、铅、锂、镁、锰、镍、钾、钠、锡、钛、钒、锌）含量的方法。本文件适用于电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定，测定范围为0.001μg/kg～10.000μg/kg。标准工作曲线法适用于各痕量杂质元素含量＞0.100μg/kg；标准加入法适用于各痕量杂质元素含量≤0.100μg/kg

发布历史

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研制信息

起草单位：
青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、青海芯测科技有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、江苏赛夫特半导体材料检测技术有限公司
起草人：
秦榕、申梅桂、李升业、岳玉芳、蒲存芬、刘凤华、张啸虎、马婷、曹岩德、鲁文锋
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

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