适用范围：本文件规定了采用氦离子化气相色谱仪配合浓缩解吸装置测定质子交换膜燃料电池汽车用氢气中氨气、甲醛的试验方法

适用范围：本文件描述了在俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)中使用惰性气体离子的离子束对准方法,以确保溅射深度剖析中的良好深度分辨和表面的最佳清洁。这些方法有两类:一类是用法拉第杯测量离子束流;另一类是成像方法。其中,法拉第杯法还规定了离子束流密度和束流分布的测量要求。 本文件适用于束斑直径小于或等于1 mm 的离子枪,但不包括深度分辨优化。

适用范围：本文件描述了利用X射线光电子能谱(XPS)测量导电碳基材料结合能的方法。 本文件适用于碳纳米管、石墨烯、石墨等导电碳基材料结合能的测量。

适用范围：本文件举例描述了ISO/TC 201专业范围内有助于表征生产生物传感装置基底性质的表面化学分析方法。成功的表征使人们有机会更好地了解生产过程中每个步骤的表面化学反应,这些特性将影响最终器件(如微阵列)的整体性能。制备的步骤包括连接分子固定用于基底活化,以及用生物传感(即所谓的探针)所需的特异性生物分子对活化的基底进行功能化修饰。 玻片的硅烷基功能化是生物传感玻璃基底研究的重点,也是后续固定探针分子的关键生产步骤。固定好的探针用于传感生物识别事件。选择硅烷化过程是因为它是目前生物传感器生产中最受欢迎的方法之一。 本文件概述了识别基底、器件生产步骤(如清洁、活化和化学修饰)和有效期(如储存条件和老化)相关问题可能来源的方法、策略和指南。这些与表征玻璃基底生物传感器的表面化学分析人员和生物传感装置生产领域的开发人员或质量管理者均特别相关。基于定量和定性表面化学分析,能制定策略来确认器件制造中性能不佳的原因,并加以实施。本文件展示了当前技术的研究深度,以及ISO/TC 201未来更具体工作的潜在出发点,这些工作最终将形成标准化的测量程序。 本文件未讨论具体的处理方案。如需了解有关方案的更多信息,请参考专业文献,例如参考文献[1]~参考文献[9]。

适用范围：本文件界定了光学界面分析领域(包括椭偏测量、拉曼光谱和非线性光学)的表面化学分析术语,以及普通光学术语。 本文件适用于表面化学分析中光学界面分析相关的教学、科研、设计、制造、编写相关技术文件和书刊以及技术交流。

适用范围：本文件描述了使用中能离子散射术（MEIS）对硅基底上无定形重金属氧化物超薄膜进行定量深度剖析的方法。

适用范围：本文件描述了使用原子力显微镜（AFM）测量柔顺材料弹性模量的程序。通过测量柔顺材料表面的力-距离曲线，并使用基于JKR模型理论的两点法进行分析。 本文件适用于弹性模量范围为100 kPa～1 GPa的柔顺材料。空间分辨取决于AFM探针和表面之间的接触半径，通常约为10 nm～20 nm。

适用范围：本文件描述了一种通过对尺寸比预期分辨小得多的物体成像来测定共聚焦荧光显微镜（CFM）横向分辨的方法。

适用范围：本文件描述了使用电子能谱技术确定“核-壳”纳米颗粒(包括一些变体和非理想形态)包覆层厚度和化学组成的方法。明确了每种方法的假设、挑战和不确定性。本文件还描述了电子能谱用于纳米颗粒样品常规分析的规程和问题,特别是它们对包覆层厚度测量的重要性。 本文件重点介绍了电子能谱技术的使用,特别是X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)和基于同步辐射的方法。这些方法不能提供准确分析所需的所有信息,因此,本文件概述了一些附加的分析方法,在一定程度上有助于解释电子能谱数据。

适用范围：本文件给出了辉光放电质谱(GD-MS)的操作和使用程序。目前在用的几种GD-MS系统来自不同的制造商，本文件描述了所适用操作程序的差异。 注： 本文件旨在配合仪器制造商的操作手册和推荐内容使用。

适用范围：本文件规定了采用高锰酸钾氧化—硫酸亚铁铵滴定法测定偏钒酸钾中钒含量的术语和定义、方法概述、试剂与材料、仪器与设备、样品、分析步骤、分析结果及其表示、精密度、试验报告。 本文件适用于偏钒酸钾中钒含量的测定，测定范围（质量分数）为10.0%～37.0%。 本文件规定了采用高锰酸钾氧化—硫酸亚铁铵滴定法测定偏钒酸钾中钒含量的术语和定义、方法概述、试剂与材料、仪器与设备、样品、分析步骤、分析结果及其表示、精密度、试验报告。 本文件适用于偏钒酸钾中钒含量的测定，测定范围（质量分数）为10.0%～37.0%

适用范围：本文件规定了测定松香中重金属（以铅计）的目视比浊法的的原理、试剂和材料、仪器和设备、分析步骤、结果判定、精密度和质量控制。 本文件适用于松香中重金属（以铅计）的测定，当称样量为5 g，定容体积为50 mL时，方法检出限为2.5 mg/kg。 规定了测定松香中重金属（以铅计）的目视比浊法的的原理、试剂和材料、仪器和设备、分析步骤、结果判定、精密度和质量控制。 适用于松香中重金属（以铅计）的测定，当称样量为5 g，定容体积为50 mL时，方法检出限为2.5 mg/kg

适用范围：本文件规定了基于模型数据库(MBL)方法通过测长扫描电子显微镜(CD-SEM)成像来测定晶圆和光掩膜的关键尺寸(CD)值所需的结构模型、相关参数、文件格式和拟合程序。 本文件适用于试样的线宽测定，如晶圆上的栅极、光掩膜、单个孤立或密集排列的线特征图案，最小达10 nm。