GB/T 47073-2026 表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析
GB/T 47073-2026 Surface chemical analysis—Depth profiling—Non-destructivedepth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films onSi substrates with medium energy ion scattering
基本信息
发布历史
-
2026年01月
文前页预览
研制信息
- 起草单位:
- 中石化石油化工科学研究院有限公司、季华实验室、中国计量科学研究院、河北工程大学、国家纳米科学中心
- 起草人:
- 邱丽美、范燕、王海、侯俊先、武春霞、忻睦迪、徐鹏
- 出版信息:
- 页数:36页 | 字数:54 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS7104040
CCSG.04.
中华人民共和国国家标准
GB/T47073—2026/ISO231702022
:
表面化学分析深度剖析中能离子
散射术对硅基底上纳米尺度
重金属氧化物薄膜的无损深度剖析
Surfacechemicalanalysis—Depthprofiling—Non-destructive
depthprofilingofnanoscaleheavymetaloxidethinfilmson
Sisubstrateswithmediumenergyionscattering
ISO231702022IDT
(:,)
2026-01-28发布2026-08-01实施
国家市场监督管理总局发布
国家标准化管理委员会
GB/T47073—2026/ISO231702022
:
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
术语和定义
3………………1
分析的原理和建议
4MEIS………………1
分析
5MEIS………………2
谱模拟
6MEIS……………2
谱分析结果报告
7MEIS…………………4
附录资料性实验室间测试报告
A()……………………5
附录资料性谱模拟程序源代码列表和使用进行谱模拟的程序
B()MEISPowerMeisMEIS……17
附录资料性电子阻止本领数据的可靠性
C()IAEA…………………20
附录资料性据数据库拟合参数ABC和D
D()IAEA、、……………22
参考文献
……………………28
Ⅰ
GB/T47073—2026/ISO231702022
:
前言
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
本文件等同采用表面化学分析深度剖析中能离子散射术对硅基底上纳米尺
ISO23170:2022《
度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析
》。
本文件做了下列最小限度的编辑性改动
:
按照在文中引用的顺序将脚注中的和序号更正了顺序即进行了对调
a),34,。
图增加注黑线为试验数据红线为模拟结果绿线为红线乘以常数后所得与黑线吻
b)A.3“:,,C
合良好的曲线
。”
根据文献及本文件中公式将附录的表中表头处参数的单位更正为
c)[16](1),AA.4“A”
0.5216.5
eV·cm/10atoms。
SESKE
根据文献将附录中的公式更正为SKs(0)s(0)SK
d)[16],A(A.1)S=α+β,N=
coscos
SESKE
N(0)N(0)
α+β。
coscos
将附录的公式和中涉及符号的项更正为密度符号ρ
e)C(C.1)(C.2)P。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利文件的发布机构不承担识别专利的责任
。。
本文件由全国表面化学分析标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC608)。
本文件起草单位中石化石油化工科学研究院有限公司季华实验室中国计量科学研究院河北工
:、、、
程大学国家纳米科学中心
、。
本文件起草人邱丽美范燕王海侯俊先武春霞忻睦迪徐鹏
:、、、、、、。
Ⅲ
GB/T47073—2026/ISO231702022
:
引言
中能离子散射术自世纪年代初发明以来一直被认为是一种具有单原子深度分辨的
(MEIS)2080,
表面和界面组成定量分析方法已广泛用于超薄膜特别是纳米栅极氧化物的分析以确定其成
。MEIS,
分厚度和界面最近被用于纳米颗粒分析以确定具有核壳结构样品的尺寸和组成随着
、。,MEIS,。
技术的发展除了早期使用的环形静电能量分析器外不同类型的能量分析器如磁扇型分析器和
MEIS,,
飞行时间能量分析器也已被应用此外随着电子器件等检测对象的尺寸持续缩小由于溅射
(TOF)。,,
损伤导致提供的深度剖析结果变差对深度剖析准确性和可靠性的要求已经超出了溅射深度剖析的极
,
限需要研究种类型的能量分析器离子种类和用于分析入射离子的不同能量范围之间的一
。3、MEIS
致性并建立定量分析的程序附录报告了两次国际实验室间测试结果
,MEIS。A。
Ⅳ
GB/T47073—2026/ISO231702022
:
表面化学分析深度剖析中能离子
散射术对硅基底上纳米尺度
重金属氧化物薄膜的无损深度剖析
1范围
本文件描述了使用中能离子散射术对硅基底上无定形重金属氧化物超薄膜进行定量深度
(MEIS)
剖析的方法
。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
。,
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
,;,()
本文件
。
表面化学分析词汇第部分通用术语及谱学术语
ISO18115-1:20131:(Surfacechemicalanalysis—
Vocabulary—Part1:Generaltermsandusedinspectroscopy)
注表面化学分析词汇第部分通用术语及谱学术语
:GB/T22461.1—20231:(ISO18115-1:2013,IDT)
表面化学分析词汇第部分扫描探针显微术术语
ISO18115-2:20132:(Surfacechemicalanalysis—
Vocabulary—Part2:Termsusedinscanning-probemicroscopy)
注表面化学分析词汇第部分扫描探针显微术术语
:GB/T22461.2—20232:(ISO18115-2:2013,MOD)
3术语和定义
和界定的以及下列术语和定义适用于本文件
ISO18115-1ISO18115-2。
31
.
电子阻止本领electronicstoppingpower
粒子和质子等带电粒子与电子相互作用时受到的减速力该减速力会导致粒子能量损失
α,。
4MEIS分析的原理和建议
41厚度小于的超薄膜能使用分析分析时使用的+或者+离
.10nmMEIS。100keV~500keVHHe
子精确测量散射离子能量和角度以便将测量谱与模拟谱进行比较能使用公共网站专家实
。,。、MEIS
验室和制造商提供的免费程序如1)和2)来模拟谱模拟程序能计算散射
(PowerMeisSIMNRA)MEIS。
截面和电子阻止本领通常计算出的电子阻止本领值误差很大因此建议使用网站3)上列出的
。,,IAEA
电子阻止本领值
。
42如果网站未列出所需的电子阻止本领值则建议用户进行相关测量以获得更可靠的结果
.IAEA,。
1)http://tarsi.f.ufrgs.br
2)https://home.mpcdf.mpg.de/~mam/
可从以下网址获得注原文编号为该文件中按顺序编号原则改为
3):/stopping/(:4,3。)
1
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