T/CIET 723-2024 半导体CMP抛光材料技术规范
T/CIET 723-2024 Semiconductor CMP polishing material technical specification
团体标准
中文(简体)
现行
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|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/CIET 723-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-10-23
实施日期
2024-10-23
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了半导体CMP抛光材料的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输及贮存。
本文件适用于半导体CMP抛光材料;
主要技术内容:本文件规定了半导体CMP抛光材料的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输及贮存。本文件适用于半导体CMP抛光材料
发布历史
-
2024年10月
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研制信息
- 起草单位:
- 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、浙江芯晖装备技术有限公司、河北工业大学、成都泰美克晶体技术有限公司、兴华清科(上海)电子材料有限公司、上海芯谦集成电路有限公司、通标中研标准化技术研究院(北京)有限公司、途邦认证有限公司
- 起草人:
- 徐新华、陈鑫、潘国峰、李辉、刘宁、张莉娟、王云峰、徐威楠、姜翠兰、张峰、罗翀、杨飞、齐宇航、刘岩、吴永利、汪贤峰、许艳晶、徐敬铭、包瑾、刘莉慧
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
暂无内容
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