YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

YS/T 719-2009 Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating

行业标准-有色金属中文简体现行页数：5页 | 格式：PDF

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基本信息

标准号

YS/T 719-2009

标准类型

行业标准-有色金属

标准状态

现行

中国标准分类号（CCS）

H63 稀有高熔点金属及其合金

国际标准分类号（ICS）

77.150.99 其他有色金属产品

发布日期

2009-12-04

实施日期

2010-06-01

发布单位/组织

中华人民共和国工业和信息化部

归口单位

全国有色金属标准化技术委员会

适用范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

发布历史

2009年12月

YS/T 719-2009　平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

当前标准现行 2009-12-04

文前页预览

研制信息

起草单位：: 利达光电股份有限公司

起草人：: 李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦

出版信息：: 页数：5页 | 字数：7 千字 | 开本：大16开

内容描述

犐犆犛７７．１５０．９９

犎６３

中华人民共和国有色金属行业标准

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犢犛犜７１９２００９

平面磁控溅射靶材

光学薄膜用硅靶

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２００９１２０４发布２０１００６０１实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

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