YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 719-2009 Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
行业标准-有色金属
中文简体
现行
页数：5页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
YS/T 719-2009
标准类型
行业标准-有色金属
标准状态
现行
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
发布历史
-
2009年12月
研制信息
- 起草单位：
- 利达光电股份有限公司
- 起草人：
- 李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
- 出版信息：
- 页数：5页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开
内容描述
犐犆犛７７．１５０．９９
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中华人民共和国有色金属行业标准
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犢犛犜７１９２００９
平面磁控溅射靶材
光学薄膜用硅靶
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２００９１２０４发布２０１００６０１实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
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犢犛犜７１９２００９
定制服务
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