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YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

YS/T 719-2009 Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating

行业标准-有色金属 中文简体 现行 页数：5页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
YS/T 719-2009
标准类型
行业标准-有色金属
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H63 稀有高熔点金属及其合金
国际标准分类号（ICS）
77.150.99 其他有色金属产品
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

发布历史

文前页预览

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶-第1页
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶-第2页
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶-第3页

研制信息

起草单位：
利达光电股份有限公司
起草人：
李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
出版信息：
页数：5页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开

内容描述

犐犆犛７７．１５０．９９

犎６３

中华人民共和国有色金属行业标准

／—

犢犛犜７１９２００９

平面磁控溅射靶材

光学薄膜用硅靶

—

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犵狆犵

２００９１２０４发布２０１００６０１实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

／—

犢犛犜７１９２００９

定制服务

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    引用标准
    GB/T 1551
    GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
    现行
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    被代替
    GB/T 1551-2009 硅单晶电阻率测定方法
    被代替
    GB/T 2040
    GB/T 2040-2017 铜及铜合金板材
    现行
    GB/T 2040-2002 铜及铜合金板材
    被代替
    GB/T 2040-2008 铜及铜合金板材
    被代替
    GB/T 5121(所有部分)
    GB/T 5121.10-2008 铜及铜合金化学分析方法 第10部分：锡含量的测定
    现行
    GB/T 5121.11-2008 铜及铜合金化学分析方法 第11部分：锌含量的测定
    现行
    GB/T 5121.1-2008 铜及铜合金化学分析方法 第1部分：铜含量的测定
    现行
    GB/T 5121.12-2008 铜及铜合金化学分析方法 第12部分：锑含量的测定
    现行
    GB/T 5121.13-2008 铜及铜合金化学分析方法 第13部分:铝含量的测定
    现行
    GB/T 5121.14-2008 铜及铜合金化学分析方法 第14部分：锰含量的测定
    现行
    GB/T 5121.15-2008 铜及铜合金化学分析方法 第15部分：钴含量的测定
    现行
    GB/T 5121.16-2008 铜及铜合金化学分析方法 第16部分：铬含量的测定
    现行
    GB/T 5121.17-2008 铜及铜合金化学分析方法 第17部分：铍含量的测定
    现行
    GB/T 5121.18-2008 铜及铜合金化学分析方法 第18部分：镁含量的测定
    现行
    GB/T 5121.19-2008 铜及铜合金化学分析方法 第19部分：银含量的测定
    现行
    GB/T 5121.20-2008 铜及铜合金化学分析方法 第20部分：锆含量的测定
    现行
    GB/T 5121.21-2008 铜及铜合金化学分析方法 第21部分：钛含量的测定
    现行
    GB/T 5121.2-2008 铜及铜合金化学分析方法 第2部分：磷含量的测定
    现行
    GB/T 5121.22-2008 铜及铜合金化学分析方法 第22部分：镉含量的测定
    现行
    GB/T 5121.23-2008 铜及铜合金化学分析方法 第23部分：硅含量的测定
    现行
    GB/T 5121.24-2008 铜及铜合金化学分析方法 第24部分：硒、碲含量的测定
    现行
    GB/T 5121.25-2008 铜及铜合金化学分析方法 第25部分：硼含量的测定
    现行
    GB/T 5121.26-2008 铜及铜合金化学分析方法 第26部分：汞含量的测定
    现行
    GB/T 5121.27-2008 铜及铜合金化学分析方法 第27部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法
    现行
    GB/T 5121.3-2008 铜及铜合金化学分析方法 第3部分：铅含量的测定
    现行
    GB/T 5121.4-2008 铜及铜合金化学分析方法 第4部分：碳、硫含量的测定
    现行
    GB/T 5121.5-2008 铜及铜合金化学分析方法 第5部分：镍含量的测定
    现行
    GB/T 5121.6-2008 铜及铜合金化学分析方法 第6部分：铋含量的测定
    现行
    GB/T 5121.7-2008 铜及铜合金化学分析方法 第7部分：砷含量的测定
    现行
    GB/T 5121.9-2008 铜及铜合金化学分析方法 第9部分：铁含量的测定
    现行
    GB/T 5121.29-2015 铜及铜合金化学分析方法 第29部分：三氧化二铝含量的测定
    现行
    GB/T 5121.28-2021 铜及铜合金化学分析方法 第28部分：铬、铁、锰、钴、镍、锌、砷、硒、银、镉、锡、锑、碲、铅和铋含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
    现行
    GB/T 5121.8-2024 铜及铜合金化学分析方法 第8部分：氧、氮、氢含量的测定
    现行
    GB/T 5121.10-1996 铜及铜合金化学分析方法 锡量的测定
    被代替
    GB/T 5121.11-1996 铜及铜合金化学分析方法 锌量的测定
    被代替
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    被代替
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