T/CIET 1279-2025 碳化硅单晶生长技术规范 物理气相传输法(PVT)
T/CIET 1279-2025 Silicon carbide single crystal growth technology specification: Physical vapor transport method (PVT)
团体标准
中文(简体)
现行
页数:0页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/CIET 1279-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2025-05-14
实施日期
2025-05-14
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了碳化硅单晶生长物理气相传输法(PVT)的工艺原理、设备要求、工艺过程、质量控制、安全与环保等内容。
本文件适用于采用PVT法生长碳化硅单晶的工艺过程、设备、材料、质量控制等相关技术要求,明确所涵盖的碳化硅单晶的晶型、尺寸范围等;
主要技术内容:本文件规定了碳化硅单晶生长物理气相传输法(PVT)的工艺原理、设备要求、工艺过程、质量控制、安全与环保等内容。本文件适用于采用PVT法生长碳化硅单晶的工艺过程、设备、材料、质量控制等相关技术要求,明确所涵盖的碳化硅单晶的晶型、尺寸范围等
发布历史
-
2025年05月
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研制信息
- 起草单位:
- 眉山博雅新材料股份有限公司、苏州清橙半导体科技有限公司、山西烁科晶体有限公司、江苏超芯星半导体有限公司、通标中研标准化技术研究院(北京)有限公司、途邦认证有限公司
- 起草人:
- 王宇、陈鹏飞、侯晓蕊、袁振洲、袁丽、雷沛、顾鹏、刘西洋、陈颖超、刘岩、吴永利、汪贤峰、冀云、徐敬铭、包瑾、祝焕新
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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