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T/CIET 1178-2025 微波等离子体化学气相沉积系统技术要求

T/CIET 1178-2025 Microwave plasma chemical vapor deposition system technical requirements

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CIET 1178-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
-
国际标准分类号（ICS）
71.040.01 分析化学综合
发布日期
2025-04-16
实施日期
2025-04-16
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了微波等离子体化学气相沉积系统的缩略语、工作原理、工作环境及操作条件、系统结构、系统特性、工艺系统及设备、运行与维护和试验方法。 本文件适用于微波等离子体化学气相沉积系统; 主要技术内容:本文件规定了微波等离子体化学气相沉积系统的缩略语、工作原理、工作环境及操作条件、系统结构、系统特性、工艺系统及设备、运行与维护和试验方法。本文件适用于微波等离子体化学气相沉积系统

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研制信息

起草单位：
通标中研标准化技术研究院（北京）有限公司、成都沃特塞恩电子技术有限公司、嘉兴沃尔德金刚石工具有限公司、西安交通大学、欣源科技（北京）有限公司、途邦认证有限公司
起草人：
吴永利、季宇、陈继锋、王宏兴、王少鹏、刘文科、孙雪原、王艳丰、张龙辉、刘岩、汪贤峰、贾国蕊、徐敬铭、包瑾、刘旭彤
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

暂无内容

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