T/CNMN 156-2026 半导体用多区域透光率动态调节掩模版技术规范
T/CNMN 156-2026 Technical specifications for multi-region light transmittance dynamic adjustment mask for semiconductors
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CNMN 156-2026
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2026-07-14
实施日期
2026-07-14
发布单位/组织
-
归口单位
中国少数民族用品协会
适用范围
-
发布历史
-
2026年07月
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研制信息
- 起草单位：
- 兴华芯(绍兴)半导体科技有限公司、湖南普照信息材料有限公司、合肥知常光电科技有限公司、常州兰利电器科技有限公司、途邦认证有限公司
- 起草人：
- 曾振瑞、李伟、王兴平、潘国军、李红娇、廖奕凯、李宥陞、纪寰纬、周明爱
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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