GB/T 43035-2023 半导体器件 集成电路 第20部分:膜集成电路和混合膜集成电路总规范 第一篇:内部目检要求
GB/T 43035-2023 Semiconductor devices—Integrated circuits—Part 20:Generic specification for film integrated circuits and hybrid film integrated circuits—Section 1:Requirements for internal visual examination
基本信息
发布历史
-
2023年09月
研制信息
- 起草单位:
- 中国电子科技集团公司第四十三研究所、中国电子技术标准化研究院
- 起草人:
- 王婷婷、吕红杰、冯玲玲、王琪、李林森、雷剑、张亚娟
- 出版信息:
- 页数:23页 | 字数:46 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS31.200
CCSL57
中华人民共和国国家标准
/—/:
GBT430352023IEC60748-20-11994
半导体器件集成电路第部分:
20
膜集成电路和混合膜集成电路总规范
:
第一篇内部目检要求
——:
SemiconductordevicesInteratedcircuitsPart20Generic
g
—
secificationforfilminteratedcircuitsandhbridfilminteratedcircuits
pgyg
:
Section1Reuirementsforinternalvisualexamination
q
(:,)
IEC60748-20-11994IDT
2023-09-07发布2023-09-07实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—/:
GBT430352023IEC60748-20-11994
目次
前言…………………………Ⅰ
引言…………………………Ⅱ
1范围………………………1
1.1目的…………………1
1.2检查顺序……………1
1.3检查设备……………1
1.4检查环境……………1
1.5放大倍数……………1
1.6说明…………………1
1.7替代检验方法………………………1
2规范性引用文件…………………………2
3术语和定义………………2
成膜基板低放大倍数……………………
4-3
4.1基板…………………3
4.2膜层…………………3
组装元器件在基板上的机械安装和电气连接…………
5-5
5.1外贴元件……………5
组装方法低放大倍数检查…………
5.2-5
组装基板在封装中的机械安装和电气连接低放大倍数……………
6--6
6.1通则…………………6
6.2焊接和有机黏接……………………6
7内部引线…………………7
7.1通则…………………7
7.2金丝球焊键合和楔形键合…………7
7.3金丝球焊键合………………………7
()…………………
7.4无尾键合月牙形7
7.5楔形键合………
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