T/QGCML 743-2023 半导体设备零部件阳极氧化工艺规范
T/QGCML 743-2023 Semiconductor equipment component anodizing process specification
团体标准
中文(简体)
现行
页数:0页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/QGCML 743-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2023-04-17
实施日期
2023-04-30
发布单位/组织
-
归口单位
全国城市工业品贸易中心联合会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了半导体设备零部件阳极氧化工艺规范的术语与定义、技术要求、阳极氧化工艺方法。本标准适用于半导体设备零部件的阳极氧化工艺
发布历史
-
2023年04月
文前页预览
当前资源暂不支持预览
研制信息
- 起草单位:
- 帝京半导体科技(苏州)有限公司、中国科学院微电子研究所、中科九微科技有限公司、沈阳芯源微电子设备股份有限公司、江苏鲁汶仪器有限公司、吉姆西半导体科技(无锡)有限公司
- 起草人:
- 黎纠、袁林锋、郁忠杰、屈芙蓉、王若愚、胡冬冬、孙阳
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- JB/T 9315-1999 大地测量仪器 水准标尺 1999-08-06
- JB/T 9329-1999 仪器仪表运输、运输贮存基本环境条件及试验方法 1999-08-06
- QB/T 1291-1991 自动洗衣机用进水电磁阀 1991-06-04
- SL 447-2009 水土保持工程项目建议书编制规程 2009-05-21
- JB/T 11245-2012 污泥堆肥翻堆曝气发酵仓 2012-05-24
- WS/T 246-2005 白细胞分类计数参考方法 2005-05-08
- DL/T 670-2010 母线保护装置通用技术条件 2011-01-09
- JB 3248-1991 工矿内燃机车 试验方法与检验规则 1991-07-03
- JB/T 9233.23-1999 工业自动化仪表 通用试验方法 倾跌影响 1999-08-06
- EJ/T 1180-2005 压水堆核电厂房固定式辐射监测系统设计准则 2005-04-11