T/QGCML 744-2023 半导体设备零部件化学清洗工艺规范
T/QGCML 744-2023 Semiconductor equipment component chemical cleaning process specification
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/QGCML 744-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2023-04-17
实施日期
2023-04-30
发布单位/组织
-
归口单位
全国城市工业品贸易中心联合会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了半导体设备零部件化学清洗工艺规范的术语定义、技术要求以及化学清洗工艺方法。本标准适用于半导体设备零部件的化学清洗工艺
发布历史
-
2023年04月
文前页预览
当前资源暂不支持预览
研制信息
- 起草单位：
- 帝京半导体科技（苏州）有限公司、中国科学院微电子研究所、中科九微科技有限公司、沈阳芯源微电子设备股份有限公司、江苏鲁汶仪器有限公司、吉姆西半导体科技（无锡）有限公司
- 起草人：
- 黎纠、袁林锋、郁忠杰、屈芙蓉、王若愚、胡冬冬、孙阳
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- GB/T 19102-2003 术语部件库的信息描述规范 2003-05-14
- GB/T 6159.4-2003 缩微摄影技术 词汇 第4部分：材料和包装物 2003-05-14
- GB/T 19112-2003 米糠油 2003-05-14
- GB/T 6160-2003 缩微摄影技术 源文件第一代银—明胶型缩微品密度规范与测量方法 2003-05-14
- GB/T 6159.6-2003 缩微摄影技术 词汇 第6部分：设备 2003-05-14
- GB/T 6159.8-2003 缩微摄影技术 词汇 第8部分：应用 2003-05-14
- GB/T 6159.3-2003 缩微摄影技术 词汇 第3部分：胶片处理 2003-05-14
- GB/T 19103-2003 辞书编纂的一般原则与方法 2003-05-14
- GB/T 19110-2003 缩微摄影技术 检查轮转式缩微摄影机系统性能用的测试标板 2003-05-14
- GB/T 19111-2003 玉米油 2003-05-14