T/CASAS 001-2018 碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范
T/CASAS 001-2018 Silicon Carbide Schottky Barrier Diode Generic Specification
团体标准
中文(简体)
现行
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格式:PDF
基本信息
标准号
T/CASAS 001-2018
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2018-09-21
实施日期
2018-09-21
发布单位/组织
-
归口单位
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
适用范围
主要技术内容:碳化硅(SiC)是目前发展最成熟的宽禁带半导体之一,具有比硅更高的击穿场强、更快的饱和速度和电子漂移速度、更宽的禁带宽度和更高的热导率等特性,可制作性能更加优异的高效、高温、高频、大功率、抗辐射功率器件。不仅能够在直流、交流输电,不间断电源,开关电源,工业控制等传统工业领域广泛应用,而且在太阳能、风能、电动汽车航空航天等领域也具有广阔的应用前景。随着SiC 肖特基势垒二极管的技术发展、市场逐步开启,Si二极管的标准在某些方面的规定既不能体现SiC二极管优越的特性,也限制了SiC二极管在某些突出特性方面的发展,制定《碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范》,以支撑产品的设计、生产、测量、验收等工作
发布历史
-
2018年09月
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研制信息
- 起草单位:
- 中国科学院微电子研究所、全球能源互联网研究院有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、株洲中车时代电气股份有限公司、龙腾半导体有限公司
- 起草人:
- 许恒宇、李金元、柏松、李诚瞻、刘鹏飞、万彩萍、查祎英、刘奥、周维、赵璐冰、高伟
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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