T/QGCML 1685-2023 文化艺术活动互联网在线管理系统
T/QGCML 1685-2023 Arts and cultural event internet online management system
基本信息
发布历史
-
2023年10月
研制信息
- 起草单位:
- 武汉壹风互娱文化传播有限公司、武汉苌宏网络科技发展有限公司、武汉鑫魅文化传媒有限公司
- 起草人:
- 王祚林、王庆、胡栋仁、熊利文、欧梦思
- 出版信息:
- 页数:7页 | 字数:- | 开本: -
内容描述
ICS35.240.01
CCSL70
团体标准
T/QGCML1685—2023
文化艺术活动互联网在线管理系统
Cultureandartactivitiesonlinemanagementsystem
2023-10-23发布2023-11-07实施
全国城市工业品贸易中心联合会 发布
T/QGCML1685—2023
目次
前言..................................................................................II
1范围................................................................................1
2规范性引用文件......................................................................1
3术语和定义..........................................................................1
4基本要求............................................................................1
5功能模块............................................................................2
6运行测试............................................................................3
I
T/QGCML1685—2023
前言
本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。
本文件起草单位:武汉壹风互娱文化传播有限公司、武汉苌宏网络科技发展有限公司、武汉鑫魅文
化传媒有限公司。
本文件主要起草人:王祚林、王庆、胡栋仁、熊利文、欧梦思。
II
定制服务
推荐标准
- GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 1995-04-18
- GB/T 1552-1995 硅、锗单晶电阻率测定 直排四探针法 1995-04-18
- GB/T 1817-1995 硬质合金常温冲击韧性试验方法 1995-04-18
- GB/T 6619-1995 硅片弯曲度测试方法 1995-04-18
- GB/T 469-1995 铅锭 1995-04-18
- GB/T 1554-1995 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法 1995-04-18
- GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 1995-04-18
- GB/T 4436-1995 铝及铝合金管材外形尺寸及允许偏差 1995-04-18
- GB/T 6618-1995 硅片厚度和总厚度变化测试方法 1995-04-18
- GB/T 5230-1995 电解铜箔 1995-04-18