GB/Z 43684-2024 纳米技术 光栅的描述、测量和尺寸质量参数

ICS07.120

CCSL04

中华人民共和国国家标准化指导性技术文件

/—/:

GBZ436842024IECTS626222012

纳米技术、

光栅的描述测量和

尺寸质量参数

—,

NanotechnoloiesDescritionmeasurementanddimensional

gp

ualitarametersofratins

qypgg

(:,—,

IECTS626222012NanotechnoloiesDescritionmeasurementand

gp

,)

dimensionalualitarametersofartificialratinsIDT

qypgg

2024-03-15发布2024-10-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

/—/:

GBZ436842024IECTS626222012

目次

前言…………………………Ⅲ

引言…………………………Ⅳ

1范围………………………1

2规范性引用文件…………………………1

3术语和定义………………1

3.1基本术语……………1

3.2光栅相关术语………………………3

3.3光栅的种类…………………………5

3.4光栅质量参数术语…………………7

3.5表征光栅的测量方法类别…………9

4缩略语……………………10

5光栅校准和质量表征方法………………10

5.1概述………………10

5.2全局方法……………10

5.3局部方法……………11

5.4混合方法……………11

5.5各种方法的对比……………………12

5.6光栅特征的其他偏差………………12

5.7光栅质量表征的滤波算法…………14

6光栅表征结果的报告……………………14

6.1通则…………………14

6.2光栅规格……………14

6.3校准程序……………15

6.4光栅质量参数………………………15

()………………………

附录资料性背景信息和示例

A16

()……………

附录资料性布拉维格子

B24

参考文献……………………27

Ⅰ

/—/:

GBZ436842024IECTS626222012

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

:《、》,

本文件等同采用纳米技术人造光栅的描述测量和尺寸质量参数文件类

IECTS626222012

型由IEC的技术规范调整为我国的国家标准化指导性技术文件。

本文件做了下列最小限度的编辑性改动:

———《、》;

将标准名称改为纳米技术光栅的描述测量和尺寸质量参数

———:“”“

将IECTS626222012中未被引用的术语特征位置的相对偏差和特征位置的相对线性度

”“”“”。

偏差分别调整至术语特征位置偏差和特征位置的线性度偏差的注中

。。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

本文件由中国科学院提出。

(/)。

本文件由全国纳米技术标准化技术委员会SACTC279归口

:、、、

本文件起草单位中国计量科学研究院北京大学清华大学苏州苏大维格科技集团股份有限公

、()。

司广纳四维广东光电科技有限公司

:、、、、、、、、、、、

本文件主要起草人李伟李适朱振东李群庆陈林森李晓军高思田李琪施玉书黄鹭史瑞

、。

乔文华鉴瑜

Ⅲ

/—/:

GBZ436842024IECTS626222012

引言

光栅在纳米尺度结构的制造过程以及纳米物体的表征中起着重要的作用。

,,

在采用光刻技术的半导体集成电路批量制造中通过光来探测掩模版和硅晶圆上的光栅图案分析

,。

产生的光信号并将其用于在晶圆扫描生产工具的不同光刻步骤中实现光刻掩模和晶圆的对准在半

,

导体制造以及其他需要纳米级高定位精度的制造过程中通常使用基于光栅的长度或角度编码器系统

。,

提供运动轴的位置反馈纳米技术中光栅的另一个应用领域是作为标准器用于校准表征纳米结构所

,、。

用的必要仪器如扫描探针显微镜扫描电子显微镜或透射电子显微镜等高分辨显微镜

,。

在制造工具中用于位置反馈的光栅的质量通常影响对准系统或定位系统所能实现的精度光栅

,,

作为校准高分辨显微镜图像放大倍率的标准器其质量决定了校准的不确定度从而对显微镜的最终测

量不确定度起着重要作用。

,,

本文件主要规定了光栅特征的质量参数采用与光栅特征标称位置的偏差来表示并提供了用于校

准和表征光栅的各类测量与评价方法的应用指南。

Ⅳ

/—/:

GBZ436842024IECTS626222012

、

纳米技术光栅的描述测量和

尺寸质量参数

1范围

,

本文件界定了以光栅特征与标称位置偏差来解释光栅的全局和局部质量参数的通用术语并提供

,

了测定参数所用的测量与评价方法分类的指南以及在纳米技术的不同应用领域保证生产和使用光栅

质量的指南。

,()()

本文件所定义和描述的方法适用于不同种类的光栅但本文件重点关注一维1D和二维2D光

,、。

栅以便于纳米技术领域中涉及光栅尺寸质量参数表征的制造商用户和校准实验室之间的使用

2规范性引用文件

。,

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

,;,()

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

本文件。

/—:(/:,)

纳米科技术语第部分核心术语

GBT30544.120141ISOTS80004-12010IDT

/检测与校准实验室能力通用要求(

ISOIEC17025Generalreuirementsforthecometenceof

qp

)

testinandcalibrationlaboratories

g

注:/—检测和校准实验室能力的通用要求(/:,)

GBT270252019ISOIEC170252017IDT

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1基本术语

3.1.1

特征feature

、()。

参考一基准面具有明确的不同于边界以外区域的物理属性参数的一个连续边界内的区域

:,。

示例基底上一个具有梯形横截面的特征见图1

图基底上梯形线特征的示例

1

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