GB/T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范

ICS31.200

L90着羚

中华人民共和国国家标准

GB/T16527一1996

硬面感光板中光致抗蚀剂和

电子束抗蚀剂规范

Specificationforphotoresist/E-beam

resistforhardsurfacephotoplates

1996一09一09发布1997一05一01实施

国家技术监督局发布

GB/T16527一1996

前言

本标准等效采用SEMI标准SEMIP3-90硬《面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范》。

本标准第5章要求中5.2条和5.3条均按SEMIP3-90制定，且根据产品使用方的需要，增加了

5.1条抗蚀剂涂层性能。

SEMI标准是半导体设备和材料国际标准，具有较高的科学性和先进性，内容全面，标准配套。本标

准与已经转化为我国标准的SEMIPl-92硬《面光掩模基板》(GB/T15871-1995),SEMIP2-86硬《

面光掩模用铬薄膜)(GB/T15870-1995),SEMIP4-92《圆形石英玻璃光掩模基板规范》

(GB/T16523-1996),SEMIP6-88《光掩模对准标记规范》(GB/T16524-1996)及准备转化为我国

标准的SEMIP21-92掩《模曝光系统准确度表示准则),SEMIP19-92《用于集成电路制造技术的检测

图形单元规范》等项标准形成一个微型梅图标准系列。

本标准附录A是提示的附录。

本标准由中华人民共和国电子工业部提出。

本标准由电子工业部标准化研究所归口。

本标准起草单位:长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。

本标准主要起草人:谈仁良、吴保华、王亦林、韩艳芬。

中华人民共和国国家标准

硬面感光板中光致抗蚀剂和

GB/T16527一1996

电子束抗蚀剂规范

Specificationforphotoresist/E-beam

resistforhardsurfacephotoplates

1范围

本标准规定了硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂涂层的要求、试验方法等内容。

本标准适用于硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂的涂层检验。

2引用标准

下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均

为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。

GB191-90包装储运图示标志

GB2828-87逐批检查计数抽样程序及抽样表(适用于连续批的检查)

GB2829-87周期检查计数抽样程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查)

GB7238-87玻璃及铬版表面平整度的测试方法

GB7239-87铬版铬膜和胶膜厚度的测试方法

GB/T15871-1995硬面光掩模基板

GB/T15870-1995硬面光掩模用铬薄膜

SJ/T10584-94微电子学光掩蔽技术术语

3定义

本标准采用SJ/T10584中的定义。

4分类与命名

抗蚀剂涂层符合本标准的硬面感光板基板应满足GB/T15871和GB/T15870规定的要求。抗蚀

剂的分类与型号命名按附录A(提示的附录)规定，主要依据如下(订货文件中应予注明):

a)抗蚀剂材料;

b)在质量区内抗蚀剂的厚度及其公差;

。)整个质量区抗蚀剂的均匀性;

d)板与板之间抗蚀剂的一致性;

e)抗蚀剂的焙烘时间和温度。

5要求和测试方法

5.1抗蚀剂涂层性能

国家技术监曹局1996一09一09批准1997一05一01实施

GB/T16527一1996

5.1.1抗蚀剂涂层厚度:400nm,500nm,600nm.厚度公差参照附录A(提示的附录)。

5.1.2抗蚀剂涂层均匀性:士4写;

抗蚀剂涂层一致性:士7%,

5.1.3抗蚀剂的材料、涂层的典型技术参数见附录A(提示的附录)。

5.1.4抗蚀剂涂层厚度、均匀性及一致性的测试方法见GB7239.

5.2质量区平面度

5.2.1方型质量区和圆形质量区的区域见GB/T15871-1995中4.2.

5.2.2质量区内的有效平面度极限值按GB/T15871-1995中4.2.

5.2.3平面度的测试方法见GB7238.

5.3抗蚀剂涂层缺陷

5.3.1在质量区内应无颗粒、变色、慧星状、划痕和斑点等，使用超净台黄色漫