T/CIET 1296-2025 集成电路用高纯钽靶材
T/CIET 1296-2025
团体标准
中文(简体)
现行
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|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/CIET 1296-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2025-05-14
实施日期
2025-05-14
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。
本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积(PVD)工艺用的高纯钽靶材;
主要技术内容:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积(PVD)工艺用的高纯钽靶材
发布历史
-
2025年05月
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研制信息
- 起草单位:
- 通标中研标准化技术研究院(北京)有限公司、宝鸡市亨信稀有金属有限公司、稀美资源(贵州)科技有限公司、炎陵县今成钽铌有限公司、途邦认证有限公司
- 起草人:
- 刘岩、吴永利、汪贤峰、李泽峰、李玉儒、陈虎兵、蔡海成、徐敬铭、包瑾、刘世纪
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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