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T/CIET 1296-2025 集成电路用高纯钽靶材

T/CIET 1296-2025 High-purity tantalum target for integrated circuits

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CIET 1296-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
-
国际标准分类号（ICS）
77.150.99 其他有色金属产品
发布日期
2025-05-14
实施日期
2025-05-14
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积（PVD）工艺用的高纯钽靶材; 主要技术内容:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积（PVD）工艺用的高纯钽靶材

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研制信息

起草单位：
通标中研标准化技术研究院（北京）有限公司、宝鸡市亨信稀有金属有限公司、稀美资源（贵州）科技有限公司、炎陵县今成钽铌有限公司、途邦认证有限公司
起草人：
刘岩、吴永利、汪贤峰、李泽峰、李玉儒、陈虎兵、蔡海成、徐敬铭、包瑾、刘世纪
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

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