T/CEMIA 054-2026 氧化镓单晶抛光片位错密度检测方法 X射线形貌法
T/CEMIA 054-2026 Test Method for Dislocation Density Measurement in Single Crystal Polished Wafers of Gallium Oxide by X-ray Topography
团体标准
中文(简体)
现行
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格式：PDF
基本信息
标准号
T/CEMIA 054-2026
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2026-07-21
实施日期
2026-08-01
发布单位/组织
-
归口单位
中国电子材料行业协会
适用范围
-
发布历史
-
2026年07月
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研制信息
- 起草单位：
- 无锡华润微电子有限公司、武汉大学工业科学研究院、杭州市富阳区镓谷氧化镓产业发展服务中心（亚洲氧化镓联盟）、中国电子科技集团第四十六研究所、杭州富加镓业科技有限公司、杭州镓仁半导体有限公司、中国科学院上海光学精密器械研究所、山东大学、北京镓创科技有限公司、苏州镓和半导体有限公司、进化半导体(深圳)有限公司、北京铭镓半导体有限公司、宁波镭晶科技有限公司、同济大学
- 起草人：
- 孟标、翟小林、王敏瑞、周顺、胡志皓、张召富、吴改、汪启军、王祥金、郭宇铮、沈威、梁康、沈涛、费雪梅、张瑛卓、刘立娜、吴华、齐红基、陈端阳、夏宁、江继伟、赛青林、穆文祥、李龙、宫学源、唐为华、吴岳、祁颂、许照原、孟冬冬、徐军、唐慧丽
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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