T/CEPEA 0102-2023 化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘
T/CEPEA 0102-2023 Compound semiconductor device etching process electric-static chuck
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CEPEA 0102-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-03-01
实施日期
2024-03-15
发布单位/组织
-
归口单位
中国电子专用设备工业协会
适用范围
主要技术内容:静电卡盘是在具较高相对介电常数的电介质材料内部设置具有特定功能结构的电极组图案，通过混凝、烧结、键合等一体化工艺制造而成。本文件界定了化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘的术语和定义，规定了其结构和分类、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存
发布历史
-
2024年03月
-
2025年12月
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研制信息
- 起草单位：
- 无锡邑文微电子科技股份有限公司、广东海拓创新技术有限公司、浏阳泰科天润半导体科技有限公司
- 起草人：
- 孙文彬、高阔、刘斌、施广彦
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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