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T/CEPEA 0102-2023 化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘

T/CEPEA 0102-2023 Electrostatic chuck for etching process of compound semiconductor devices

团体标准 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CEPEA 0102-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
-
国际标准分类号（ICS）
31.220.01 机电元件综合
发布日期
2024-03-01
实施日期
2024-03-15
发布单位/组织
中国电子专用设备工业协会
归口单位
中国电子专用设备工业协会
适用范围
本文件界定了化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘（以下简称静电卡盘）的术语和定义，规定了其结构和分类、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于刻蚀碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等化合物半导体材料以及二氧化硅（SiO2）、蓝宝石、玻璃等电子迁移率较低材料所用的静电卡盘。

发布历史

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研制信息

起草单位：
无锡邑文微电子科技股份有限公司、广东海拓创新技术有限公司、浏阳泰科天润半导体科技有限公司
起草人：
孙文彬、高阔、刘斌、施广彦
出版信息：
页数：- | 字数：21 千字 | 开本： -

内容描述

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