适用范围：本文件描述了运用光学显微镜检测横截面，以测量金属覆盖层、氧化膜层和瓷釉或玻璃搪瓷覆盖层的局部厚度的方法。 本文件适用于金属和氧化物覆盖层厚度的测量。

适用范围：本文件界定了与日期和时间相关的概念、词汇及其表示方法。 本文件适用于对日期和时间的表示和使用，其他涉及日期和时间的标准制定和交流参照使用。

适用范围：本文件规定了金属基体上工程用铜电镀层的标识、要求、试验方法及抽样检验。 本文件适用于工程用途的铜电镀层，如在热处理零件表面起阻挡作用的铜电镀层，钢管焊接时起钎焊作用的铜电镀层，拉拔加工起减磨作用的铜电镀层，作镀锡底层防止基体金属扩散的铜电镀层，用于电子电路中的电磁干扰（EMI）屏蔽的铜电镀层以及接插件的铜电镀层。 本文件不适用于装饰性用途的铜电镀层（面镀层）和作为其他装饰性镀层的底层的铜电镀层，也不适用于电铸铜。

适用范围：本文件描述了利用振幅敏感涡流仪对非磁性导电基体金属上的非导电覆盖层厚度进行无损测量的方法。 在本文件中，术语“覆盖层”适用于诸如色漆和清漆、电镀层、搪瓷涂层、塑料涂层、包覆层和粉末涂层等材料。本文件适用于大多数阳极氧化膜厚度的测量，对于一些厚度过薄的转化膜层，该方法不适用（见第6章）。本文件还能用于非导电基材上的非磁性金属覆盖层厚度的测量。然而，GB/T 31554规定的相敏涡流法尤其适用于该应用，并且能提供更高精度的厚度测量结果（见附录A）。 本文件不适用于测量导电基体金属上的非磁性金属覆盖层。GB/T 31554规定的相敏涡流法特别适用于此应用。但是，在电导率非常小的超薄涂层的特殊情况下，振幅敏感涡流法也能用于此应用（见附录A）。 虽然该方法能够用于测量磁性基体金属上的覆盖层厚度，但该应用不推荐。在这种情况下，使用GB/T 4956规定的磁性测厚方法。只有在覆盖层厚度超过约1 mm时，振幅敏感涡流法也能用于此应用（见附录A）。

适用范围：本文件规定了网孔基本尺寸为0.02 mm～16.00 mm的工业用金属丝编织方孔筛网的编织型式、型号和规格，技术要求，检验方法，检验规则和标志、包装、运输、贮存。 本文件适用于固体颗粒的筛分，液体、气体物质的过滤及其他工业用途的金属丝编织方孔网的生产、检验和验收。

适用范围：本文件界定了智能计算通用基础、智能计算基础设施、智能计算架构、智能计算性能、智能计算技术与应用方面的相关术语和定义。 本文件适用于智能计算领域相关概念的理解和信息交流，为智能计算相关活动中使用的术语、智能计算相关标准制定、技术文件编制等工作提供共同理解。

适用范围：本文件规定了采用横向划痕试验评估热喷涂陶瓷涂层基体系统结合力和内聚力的方法。 本文件适用于厚度大于50 μm的热喷涂陶瓷涂层，也适用于采用其他喷涂工艺，如冷喷涂、气溶胶沉积等制备的陶瓷涂层。

适用范围：本文件规定了由电镀、自催化沉积或其他工艺所制备厚度不超过200 μm的金属覆盖层延展性的一般测量方法。 本文件适用于以下方法： --用去除基体的覆盖层箔片进行试验（从基体上剥离的金属覆盖层）； --在有基体的覆盖层上进行试验。 本文件不适用于某些涂层特定的标准方法。在某些情况下，特定的方法优先于本文件中所描述的方法，并由供需双方事先商定。

适用范围：本文件规定了在图纸上热喷涂涂层符号表示的基本要求。 本文件适用于热喷涂技术人员绘制含有热喷涂涂层零部件工程图纸时使用。

适用范围：本文件界定了金属制品防锈专业在科研、生产中常见的专用术语及其定义。 本文件适用于金属制品暂时性防锈专业的科研、制造、编写相关技术文件和技术交流。

适用范围：本文件规定了阴极保护的准则、设计、施工,阴极保护设施的运行和维护。 本文件适用于钢质构筑物的阴极保护,其他金属构筑物的阴极保护参照使用。

适用范围：本文件界定了腐蚀控制电化学保护的腐蚀基础、电化学基础、阴极保护、阳极保护、杂散电流的干扰与排除、检测与监测、电化学保护管理的术语和定义。 本文件适用于腐蚀控制电化学保护相关的科研、教学、设计、生产、制造、安装、施工、检测、调试、运维、评估等活动。

适用范围：本文件描述了磁性基体上非磁性覆盖层厚度的一种无损测量方法。 本测量方法对典型覆盖层是可接触、非破坏性的。探头或带有集成探头的仪器直接放置在待测覆盖层上。覆盖层厚度在仪器上显示。 本文件适用于油漆和清漆、电镀层、搪瓷涂层、塑料涂层、粉末涂层、包覆层的厚度测量。 注：本方法还用于测量非磁性基体金属或者其他材料（见GB/T 13744）上的磁性覆盖层的测量。

适用范围：本文件描述了一种通过在覆盖层表面和基体金属表面之间形成台阶，再应用轮廓记录仪测量台阶高度来确定金属覆盖层厚度的方法，并规定了仪器的特性以及轮廓仪法的特殊测量规程。 本文件适用于测量平整表面上厚度为0.01 μm~1 000 μm的金属覆盖层，如果采用适当措施，也能测量圆柱表面金属覆盖层的厚度。本文件也适用于覆盖层标准片厚度的测量。 本文件不适用于小于0.01 μm且工作表面平直度、平滑度较低的微小覆盖层厚度的测量。

适用范围：本文件评述了已发表的显示覆盖层中孔隙（见GB/T 3138)和不连续的方法。 本文件适用于铝、阳极氧化铝、黄铜、镉、铬、钴、铜、金、铟、铅、镍、镍-硼、镍-钴、镍-铁、镍-磷、钯、铂、釉瓷或搪瓷、铑、银、锡、锡-铅、锡-镍、锡-锌、锌等覆盖层以及铝、铍-铜、黄铜、铜、铁、镍铁钴合金、镁、镍、镍-硼、镍-磷、磷-青铜、银、钢、锡-镍和锌合金基体金属上的铬酸盐转化膜、磷酸盐转化膜、氟锆转化膜、钛锆转化膜,其他转化膜参照使用(包括有关的有机膜)。 本文件所述的测试方法通过与覆盖层不连续处暴露的基体反应，从而形成可观察到的反应产物。 注1：孔隙一般都垂直于覆盖层表面，但也可能倾斜于覆盖层表面；它们往往呈圆柱形，也可能呈扭曲形，见附录A。 注2：孔隙尺寸各不相同,从亚微观,即在普通显微镜下不可见；到微观，即放大10倍到1 000倍可见；到宏观,即肉眼可见。 注3： 孔隙可以通过覆盖层表面的变色明显地显示出来。 注4： 覆盖层中的孔隙并非总是有害的。例如，在不连续铬中，微孔铬或者微裂纹铬是有益的，在测试时要导电以显示孔隙。 注5： 孔隙率试验的结果以每平方厘米的孔隙数来表示，是与测试时所用的特定试验方法和检查中所用的放大倍数有关的相对值。附录B给出了典型的报告和评价。