适用范围：本文件适用于以高纯氮化硅原粉为原料，应用于半导体行业的J-R型氮化硅陶瓷静电吸盘。 本文件规定了半导体行业J-R型氮化硅静电吸盘的技术要求、试验方法、检验规则

适用范围：本文件适用于半导体制造领域中静电吸盘在真空环境下的温度均匀性测试。 本文件规定了半导体设备用静电吸盘真空条件下温度均匀性的测试原理、仪器设备、样品、测试方法、精密度

适用范围：本文件适用于覆土式钢制卧式容器的建造，并应同时满足以下条件： a)储存介质正常操作温度范围：0℃~50℃；正常工况设计温度范围：-20℃~65℃； b)设计压力范围：不大于4.0 MPa； c)卧式容器置于地下最高水位之上的砂床上且容器全部被覆土覆盖； d)容器公称直径≤8 m，容积≤3500 m³，容器长径比≤8。 本文件不适用于储存毒性危害程度为极度或高度危害介质的覆土式钢制卧式容器。 本文件规定了覆土式钢制卧式容器的通用要求，并规定了材料、结构、计算、制造、检验、试验和验收、防腐和阴极保护的要求