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GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

GB/T 17866-1999 Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

国家标准 中文简体 现行 页数：16页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 17866-1999
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
L56 半导体集成电路
国际标准分类号（ICS）
31.200 集成电路、微电子学
发布日期
1999-09-13
实施日期
2000-06-01
发布单位/组织
国家质量技术监督局
归口单位
由SEMI中国标准化技术委员会
适用范围
-

发布历史

文前页预览

GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则-第1页
GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则-第2页
GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则-第3页
GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则-第4页

研制信息

起草单位：
中国科学院微电子中心
起草人：
陈宝钦、陈森锦、廖温初、刘明
出版信息：
页数：16页 | 字数：21 千字 | 开本： 大16开

内容描述

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    引用标准
    GB/T 16880-1997
    GB/T 16880-1997 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则
    现行
    SJ/T 10584-1994
    SJ/T 10584-1994
    采用标准
    SEMI P23:1993
    SEMI P23:1993

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