GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
GB/T 17866-1999 Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
国家标准
中文简体
现行
页数：12页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
1999-09-13
实施日期
2000-06-01
发布单位/组织
国家质量技术监督局
归口单位
由SEMI中国标准化技术委员会
适用范围
-
发布历史
-
1999年09月
研制信息
- 起草单位：
- 中国科学院微电子中心
- 起草人：
- 陈宝钦、陈森锦、廖温初、刘明
- 出版信息：
- 页数：12页 | 字数：21 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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