GB/T 34971-2017 半导体制造用气体处理指南
GB/T 34971-2017 Guide for gaseous effluent handling in semiconductor industry
国家标准
中文简体
现行
页数：20页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2017-11-01
实施日期
2018-02-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
本标准规定了半导体制造用气体排放系统的原理及技术。本标准适用于半导体制造用气体的处理。
发布历史
-
2017年11月
研制信息
- 起草单位：
- 中昊光明化工研究设计院有限公司、西南化工研究设计院有限公司、高麦仪器公司、广东华特气体股份有限公司、东莞市联臣电子科技有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、上海市计量测试技术研究院
- 起草人：
- 孙福楠、牛艳东、廖恒易、杜汉盛、王鸿、方华、陈鹰、周鹏云
- 出版信息：
- 页数：20页 | 字数：38 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS71.040.40
G86
中华人民共和国国家标准
/—
GBT349712017
半导体制造用气体处理指南
Guideforaseouseffluenthandlininsemiconductorindustr
ggy
2017-11-01发布2018-02-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT349712017
前言
本标准按照/—给出的规则起草。
GBT1.12009
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)提出并归口。
SACTC203
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