GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
GB/T 40110-2021 Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
国家标准
中文简体
现行
页数：24页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 40110-2021
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2021-05-21
实施日期
2021-12-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
适用范围
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形：
——原子序数从16（S）到92（U）的元素；
——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。
本文件适用于以下情形：
——原子序数从16（S）到92（U）的元素；
——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。
发布历史
-
2021年05月
研制信息
- 起草单位：
- 中国计量科学研究院、华南理工大学
- 起草人：
- 王海、张艾蕊、王梅玲、任丹华、徐昕荣、范燕
- 出版信息：
- 页数：24页 | 字数：44 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS71.040.40
CCSG04
中华人民共和国国家标准
/—/:
GBT401102021ISO147062014
表面化学分析
全反射射线荧光光谱法()
XTXRF
测定硅片表面元素污染
—
SurfacechemicalanalsisDeterminationofsurface
y
elementalcontaminationonsiliconwafersbtotal-reflection
y
()
X-rafluorescenceTXRFsectrosco
yppy
(:,)
ISO147062014IDT
2021-05-21发布2021-12-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—/:
GBT401102021ISO147062014
目次
前言…………………………Ⅲ
引言…………………………Ⅳ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4缩略语……………………2
5原理………………………2
6仪器设备…………………2
7试样制备及其测量环境…………………2
8校准参考物质……………3
9安全性……………………3
10测量程序…………………3
11结果表达…………………4
12精密度……………………5
13测试报告…………………5
()………………
附录资料性参考物质
A6
()………………………
附录资料性相对灵敏度因子
B
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