GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
GB/T 41153-2021 Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
国家标准
中文简体
现行
页数：6页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 41153-2021
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2021-12-31
实施日期
2022-07-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。
发布历史
-
2021年12月
研制信息
- 起草单位：
- 中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司
- 起草人：
- 马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩
- 出版信息：
- 页数：6页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS77.040
CCSH17
中华人民共和国国家标准
/—
GBT411532021
、、
碳化硅单晶中硼铝氮杂质含量的测定
二次离子质谱法
,
Determinationofboronaluminumandnitroenimuritcontentinsilicon
gpy
—
carbidesinlecrstalSecondarionmasssectrometr
gyypy
2021-12-31发布2022-07-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
中华人民共和国
国家标准
、、
碳化硅单晶中硼铝氮杂质含量的测定
二次离子质谱法
/—
GBT411532021
*
中国标准出版社出版发行
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2100029
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