T/CIET 1151-2025 芯片制造用离子注入设备技术规范
T/CIET 1151-2025 Technical specification for ion implanter used in chip manufacturing
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CIET 1151-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2025-04-09
实施日期
2025-04-09
发布单位/组织
-
归口单位
中国国际经济技术合作促进会
适用范围
范围:本文件规定了芯片制造用离子注入设备的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
本文件适用于芯片制造用离子注入设备;
主要技术内容:本文件规定了芯片制造用离子注入设备的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于芯片制造用离子注入设备
发布历史
-
2025年04月
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研制信息
- 起草单位：
- 青岛思锐智能科技股份有限公司、艾恩（山东）半导体科技有限公司、浙江中科尚弘离子装备工程有限公司、通标中研标准化技术研究院（北京）有限公司、途邦认证有限公司
- 起草人：
- 聂翔、钟新华、刘仁杰、张丛、李更兰、彭强祥、田龙、谢均宇、陈祥龙、张蕊、姜维世、卓祖亮、刘岩、吴永利、汪贤峰、张仲琳、徐敬铭、包瑾、鲁家辉
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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