T/CEMIA 042-2024 半导体硅片清洗用石英槽
T/CEMIA 042-2024 Silicon Wafer Cleaning Quartz Tank
团体标准
中文(简体)
现行
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|
格式:PDF
基本信息
标准号
T/CEMIA 042-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-11-05
实施日期
2025-01-15
发布单位/组织
-
归口单位
中国电子材料行业协会
适用范围
范围:本文件规定了半导体硅片清洗用石英槽的术语和定义、分类和标记、材料、要求、试验方法、检验规则以及标识、清洗、包装、运输和贮存。
本文件适用于半导体硅片清洗用石英槽,以下简称石英槽;
主要技术内容:材料杂质元素含量、外观质量、 尺寸偏差与形位偏差、应力、支撑棒平整度、石英喷射管出水性能、石英槽密封性能、石英槽溢流面高度
发布历史
-
2024年11月
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研制信息
- 起草单位:
- 浙江富乐德石英科技有限公司、中国建筑材料科学研究总院有限公司、中国国检测试控股集团股份有限公司、江苏太平洋石英股份有限公司、久智光电子材料科技有限公司、浙江富同石英新材料有限公司、上海强华实业股份有限公司、辽宁汉京半导体材料有限公司、北京凯德石英股份有限公司、浙江奥博石英科技股份有限公司、东海县奥博石英制品有限公司、浙江浩锐石英科技有限公司、湖州东科电子石英股份有限公司
- 起草人:
- 杨军、吴然红、张荣、张鑫江、郑明山、王慧、钱卫刚、秦卫光、叶国闽、宋贤、高君、李来斌、周文华、蓝呈、张娟、张忠恕、盛文彬、沈根法、孔凡昌、汤芳、卫令中
- 出版信息:
- 页数:- | 字数:- | 开本: -
内容描述
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